[发明专利]用于添加式地制造三维构件的设备

权利要求书

1.一种用于添加式地制造三维构件的设备，其特征在于，所述设备包括：

过程室；

流动产生装置，所述流动产生装置构造成使气体流流过所述过程室，所述气体流收集来自所述过程室的建造材料颗粒；

分离装置，所述分离装置构造成接收已收集来自所述过程室的所述建造材料颗粒之后的所述气体流，其中所述分离装置包括：

粉末模块，所述粉末模块包括限定粉末室的一个或多个粉末室壁和从所述一个或多个粉末室壁中的至少一个延伸到所述粉末室的分离元件，其中，相对于从所述过程室流入所述分离装置的所述气体流的横向方向，在所述分离元件的上游部分和所述一个或多个粉末室壁的上游部分之间限定间隙；和

竖直定向的流动通道，所述竖直定向的流动通道限定布置在所述分离元件上方的第一分离段，其中，所述分离元件限定第二分离段，所述第二分离段占据所述粉末室的上部分，并且其中，所述间隙限定进入占据所述分离元件下方的所述粉末室的下部分的第三分离段的路径；

其中，当所述气体流从所述过程室流入所述分离装置时，第一建造材料颗粒组分和第二建造材料颗粒组分随所述气体流流过所述间隙，第三建造材料颗粒组分通过所述间隙进入所述第三分离段，并且所述第一建造材料颗粒组分随所述气体流流入所述竖直定向的流动通道并且进入所述第一分离段，所述第二建造材料颗粒组分进入所述第二分离段。

2.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，其中：

所述第一建造材料颗粒组分具有低于颗粒尺寸下限的颗粒尺寸分布，和/或低于颗粒密度下限的颗粒密度分布；和/或

所述第二建造材料颗粒组分具有高于所述颗粒尺寸下限且低于颗粒尺寸上限的颗粒尺寸分布，和/或高于所述颗粒密度下限且低于颗粒密度上限的颗粒密度分布；和/或

所述第三建造材料颗粒组分具有高于所述颗粒尺寸上限的颗粒尺寸分布，和/或高于所述颗粒密度上限的颗粒密度分布。

3.根据权利要求1或2所述的设备，其特征在于，包括：

涂覆装置，所述涂覆装置构造成形成建造材料层，其中所述粉末模块限定收集或溢流模块，所述收集或溢流模块构造成当用所述涂覆装置形成所述建造材料层时接收建造材料溢流。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的设备，其特征在于，包括：

过滤装置，所述过滤装置连接在所述竖直定向的流动通道的下游，所述过滤装置构造成将所述第一建造材料颗粒组分与所述气体流分离。

5.根据权利要求1-4中任一项所述的设备，其特征在于，其中所述分离元件在至少一个运动自由度上相对于所述一个或多个粉末室壁中的至少一个和/或相对于所述粉末室的底部被可动地支承。

6.根据权利要求5所述的设备，其特征在于，其中所述间隙的跨度能够通过所述分离元件相对于所述一个或多个粉末室壁中的所述至少一个和/或相对于所述粉末室的所述底部的运动被改变。

7.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，包括：

附加的流动产生装置，所述附加的流动产生装置构造成产生影响至少所述第二建造材料颗粒组分在所述第二分离段的方向上流动的输送流。

8.根据权利要求7所述的设备，其特征在于，其中由所述附加的流动产生装置产生的所述输送流构造成影响至少所述第二建造材料颗粒组分在所述间隙上流动。