[发明专利]一种基于气体电离室的真空紫外波长校准装置

权利要求书

1.一种基于气体电离室(6)的真空紫外波长校准装置，其特征是包括：真空紫外光源(1)，真空紫外单色分光系统(2)，真空紫外准直系统(3)，真空紫外漫射系统(4)，真空紫外切换机构(5)，气体电离室(6)；真空紫外光源(1)为气体放电光源，前端窗口为氟化镁窗口，用来提供覆盖120nm～200nm波段范围的光谱能量；真空紫外单色分光系统(2)包括入射狭缝(7)、分光光栅(8)、出射狭缝(9)，真空紫外光源(1)的光经入射狭缝(7)进入，经分光光栅(8)分光形成单色光，经出射狭缝(9)出射；真空紫外准直系统(3)包括多片光学镜片，使得真空紫外准直系统(3)的焦面位置与真空紫外单色分光系统(2)的出射狭缝(9)位置重合，对真空紫外单色分光系统(2)的出射光进行准直，形成平行光出射；真空紫外漫射系统(4)为长方形，铝基底材料进行打磨制成，其表面为漫反射表面；真空紫外切换机构(5)为圆形转台或平移导轨，可将漫射系统移入移出。

2.如权利要求1所述的真空紫外波长校准装置，其特征是所述的真空紫外光源(1)发光点为圆点，外壳为圆柱形。

3.如权利要求1所述的真空紫外波长校准装置，其特征是所述的真空紫外单色分光系统(2)利用光栅的衍射效应对真空紫外光源(1)的复合光进行分光，得到准单色光输出，波长准确度优于0.1nm，并适应真空度≤1×10-3Pa的环境条件。

4.如权利要求1所述的真空紫外波长校准装置，其特征是所述的真空紫外准直系统(3)包括2片光学镜片。

5.如权利要求1或4所述的真空紫外波长校准装置，其特征是所述的真空紫外准直系统(3)对经过真空紫外单色分光系统(2)出射的准单色光进行准直出射，形成直径为60mm～80mm的平行光束，满足真空紫外空间载荷的孔径要求，并适应真空度≤1×10-3Pa的环境条件。

6.如权利要求1所述的真空紫外波长校准装置，其特征是所述的真空紫外漫射系统(4)对真空紫外准直系统(3)出射的准直光束进行均匀处理，得到近似朗伯体的漫射面进行出射。

7.如权利要求1所述的真空紫外波长校准装置，其特征是所述的真空紫外切换机构(5)带动真空紫外漫射系统(4)切入/切出光路，在进行波长校准前，切出光路，利用气体电离室(6)对真空紫外单色分光系统(2)进行波长校准；然后切入光路，利用真空紫外漫射系统(4)形成均匀漫射面，对被测空间载荷进行波长校准。

8.如权利要求1所述的真空紫外波长校准装置，其特征是所述的气体电离室(6)选用氩气、氪气、氦气、氙气的电离波长，氩气78.98nm(15.7eV)，氪气13.05nm(95.0eV)、氦气57.40nm(21.6eV)、氙气102.48nm(12.1eV)，对真空紫外单色分光系统(2)出射光的波长进行拟合，通过线性插值的方法，实现波长准确度校准。