[发明专利]清洁机构的脏污程度确定方法、装置及存储介质

权利要求书

1.一种清洁机构的脏污程度确定方法，其特征在于，用于清洁设备中，所述清洁设备上安装有所述清洁机构和传感组件，所述传感组件用于采集感应范围内的特征参数；所述特征参数为所述传感组件发射指定信号后，采集到的所述指定信号的反射信号的参数，所述指定信号包括电磁波，所述特征参数包括反射电磁波的频率，不同介质对同一频率的电磁波进行反射后，得到的反射电磁波的频率不同，所述方法包括：

获取所述传感组件采集的工作区域内目标位置的第一特征参数，所述第一特征参数为对所述目标位置进行清洁前所述传感组件采集的特征参数；

在控制所述清洁机构对所述目标位置清洁后，获取所述传感组件采集的所述目标位置的第二特征参数；

基于所述第一特征参数与所述第二特征参数的差异，确定所述目标位置的脏污程度；

基于所述目标位置的脏污程度确定所述清洁机构的脏污程度。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述传感组件包括反射式光传感组件，所述特征参数包括所述反射式光传感器组件采集到的反射光信号的光强参数。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述基于所述目标位置的脏污程度确定所述清洁机构的脏污程度，包括：

对预设时长内各个工作时刻确定出的所述目标位置的脏污程度进行累加，得到所述清洁机构的脏污程度。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述基于所述目标位置的脏污程度确定所述清洁机构的脏污程度之后，还包括：

在所述清洁机构的脏污程度达到脏污阈值时启动第一清洗工作模式，以对所述清洁机构进行清洁。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述第一清洗工作模式包括：

移动至清洗位置，在所述清洗位置启动清洗机构对所述清洁机构进行清洗；或者，

输出清洗提示，以提示用户对所述清洁机构进行清洗。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述基于所述目标位置的脏污程度确定所述清洁机构的脏污程度之后，还包括：

在当前工作时长达到预设工作时长时，根据所述脏污程度启动第二清洗工作模式，以对所述清洁机构进行清洁。

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述根据所述脏污程度启动第二清洗工作模式，包括：

根据所述脏污程度确定清洗时长；移动至清洗位置；在所述清洗位置启动清洗机构对所述清洁机构进行清洗；其中，所述清洗时长与所述脏污程度呈正相关关系；

或者，

根据所述脏污程度确定清洗提示的输出方式；按照所述输出方式输出清洗提示，以提示用户对所述清洁机构进行清洗。

8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述传感组件包括第一传感器和第二传感器；在所述清洁设备的行进方向上，所述第一传感器安装在所述第二传感器的前端；所述第一传感器和所述第二传感器之间设置的具有清洁功能的机构仅包括所述清洁机构；

所述第一传感器用于采集所述第一特征参数，所述第二传感器用于采集所述第二特征参数。

9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述在控制所述清洁机构对所述目标位置清洁后，获取所述目标位置的第二特征参数，包括：

获取所述第一传感器和所述第二传感器之间的安装距离；

获取所述清洁设备的移动速度；

基于所述安装距离和所述移动速度确定移动时长，所述移动时长是指对于同一目标位置，所述清洁设备从所述第一传感器垂直投影的位置为所述目标位置开始至所述第二传感器垂直投影的位置为所述目标位置为止的预测时长；

获取采集所述第一特征参数之后的时长为所述移动时长时，所述第二传感器采集到的所述第二特征参数。