[发明专利]显示面板及其制作方法在审

专利信息
申请号: 202010647750.3 申请日: 2020-07-07
公开(公告)号: CN111682033A 公开(公告)日: 2020-09-18
发明(设计)人: 张伟伟 申请(专利权)人: 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77;G06F3/041;G06F3/044
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 高杨丽
地址: 518132 广东省深*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 显示 面板 及其 制作方法
【权利要求书】:

1.一种显示面板,其特征在于,包括阵列基板以及与所述阵列基板对应设置的彩膜基板;

其中,所述阵列基板包括:

衬底基板;

源漏极层,设于所述衬底基板上,设有源极和漏极;

有源层,设于所述源漏极层上,其两端分别与所述源极和所述漏极电性连接;

栅极绝缘层,设于所述衬底层上,并覆盖所述有源层和所述源漏极层;

栅极层,设于所述栅极绝缘层上,并与所述有源层对应设置;

平坦层,设于所述栅极绝缘层上,并覆盖所述栅极层;以及

像素电极层,设于所述平坦层上,并通过一过孔与所述漏极电性连接。

2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述衬底基板包括:

基底层;

遮光层,设于所述基底层上;以及

缓冲层,设于所述基底层上,并覆盖所述遮光层。

3.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述遮光层为金属层或黑色矩阵层。

4.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述阵列基板还包括:

电容层,与所述栅极层设于同一层,与所述像素电极层相对设置形成存储电容。

5.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述彩膜基板包括:

玻璃基底层;以及

公共电极层,设于所述玻璃基底层上。

6.一种显示面板的制作方法,其特征在于,包括步骤:

制作一阵列基板;以及

制作一彩膜基板,将所述彩膜基板与所述阵列基板对应设置;

其中,所述阵列基板包括:

衬底基板;

源漏极层,设于所述衬底基板上,设有源极和漏极;

有源层,设于所述源漏极层上,其两端分别与所述源极和所述漏极电性连接;

栅极绝缘层,设于所述衬底层上,并覆盖所述有源层和所述源漏极层;

栅极层,设于所述栅极绝缘层上,并与所述有源层对应设置;

平坦层,设于所述栅极绝缘层上,并覆盖所述栅极层;以及

像素电极层,设于所述平坦层上,并通过一过孔与所述漏极电性连接。

7.根据权利要求6所述的显示面板的制作方法,其特征在于,所述制作一阵列基板包括步骤:

制作一衬底基板;

制作源漏极层,在所述衬底基板上制作一源漏极层,所述源漏极层设有源极和漏极;

制作有源层,在所述源漏极层上制作一有源层,所述有源层的两端分别与所述源极和所述漏极电性连接;

制作栅极绝缘层,在所述衬底层上制作一栅极绝缘层,所述栅极绝缘覆盖所述有源层和所述源漏极层;

制作栅极层,在所述栅极绝缘层上制作一栅极层,所述栅极层与所述有源层对应设置;

制作平坦层,在所述栅极绝缘层上制作一平坦层,所述平坦层覆盖所述栅极层;以及

制作像素电极层,在所述平坦层上制作一像素电极层,所述像素电极层通过一过孔与所述漏极电性连接。

8.根据权利要求7所述的显示面板的制作方法,其特征在于,所述制作一衬底基板包括步骤:

制作基底层;

制作遮光层,在所述基底层上制作遮光层;以及

制作缓冲层,在所述基底层上制作缓冲层,所述缓冲层覆盖所述遮光层。

9.根据权利要求6所述的显示面板的制作方法,其特征在于,所述制作一阵列基板还包括步骤:

制作电容层,在制作所述栅极层时同时制作一电容层,所述电容层与所述栅极层设于同一层,与所述像素电极层相对设置形成存储电容。

10.根据权利要求6所述的显示面板的制作方法,其特征在于,所述制作一彩膜基板包括步骤:

提供一玻璃基底层;以及

制作公共电极层,在所述玻璃基底层上制作公共电极层。

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