[发明专利]一种内窥显微成像系统及成像方法在审
申请号: | 202010649440.5 | 申请日: | 2020-07-08 |
公开(公告)号: | CN111820874A | 公开(公告)日: | 2020-10-27 |
发明(设计)人: | 王金玉;杜凯;李俊;邹钱生;熊亮 | 申请(专利权)人: | 杭州今誉信息科技有限公司 |
主分类号: | A61B5/00 | 分类号: | A61B5/00;A61B1/07;A61B1/05 |
代理公司: | 北京沁优知识产权代理有限公司 11684 | 代理人: | 方仕杰 |
地址: | 310000 浙江省杭*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 显微 成像 系统 方法 | ||
1.一种内窥显微成像系统,其特征在于:包括光源,所述光源的输出端连接有光程相关器,所述光程相关器的输出端连接有传像光纤束,所述的传像光纤束通过参考反射镜连接有显微物镜,所述的显微物镜用于观察组织样品,所述的传像光纤束的输出端连接有光电探测器,所述的光电探测器的信号输出端连接有信号处理器,所述的信号处理器的输出端连接所述光程相关器,所述的信号处理器的另一输出端连接有图像显示器。
2.根据权利要求1所述的一种内窥显微成像系统,其特征在于:所述的传像光纤束的近端连接所述光程相关器,所述传像光纤束的远端连接所述显微物镜。
3.根据权利要求1所述的一种内窥显微成像系统,其特征在于:所述的光电探测器的探测面与所述的传像光纤束的近端光学共轭。
4.根据权利要求1所述的一种内窥显微成像系统,其特征在于:所述的光源为SLD光源或LED光源,且所述光源的中心波长为750nm-1350nm。
5.根据权利要求1所述的一种内窥显微成像系统,其特征在于:所述的光程相关器包括光纤耦合器,所述的光纤耦合器连接有反射镜和相位调制器,所述的反射镜连接相位调制器,所述的光纤耦合器的输入端连接所述光源,所述的相位调制器连接所述信号处理器,所述的反射镜连接所述传像光纤束。
6.根据权利要求5所述的一种内窥显微成像系统,其特征在于:所述的光纤耦合器为2*2串口。
7.根据权利要求1所述的一种内窥显微成像系统,其特征在于:所述的参考反射镜设置在所述传像光纤束的末端。
8.根据权利要求1所述的一种内窥显微成像系统,其特征在于:所述的光电探测器为面阵式探测器,为CCD感光传感器、COMS感光传感器的一种。
9.一种应用内窥显微成像系统的成像方法,其特征在于:包括下列步骤:
第一步,信号处理器输出控制信号控制光程相关器,使光程相关器输出的两束光束的光程差调整为初始值;
第二步,光源发出低相干光并输出至光程相关器中;
第三步,光程相关器将输入的低相干光转换为两束具有光程差的光束,并将具有光程差的两束光束进行合并输出至传像光纤束的近端;
第四步,传像光纤束将输入光由近端传输至远端,一部分输入光通过显微物镜照射到组织样品表面及内部,形成后向样品散射光,另一部分输入光经参考反射镜的反射形成参考反射光;
第五步,后向样品散射光与参考反射光经过传像光纤束,返回到传像光纤束的近端,然后进入光电探测器;
第六步,参考反射光与后向样品散射光在光电探测器的阵面处形成干涉信号,并将干涉信号输出至信号处理器中,并以图像方式进行存储;
第七步,信号处理器每接收完一幅干涉图像后即调整光程相关器的两束输出光束的光程,并重复第二步至第六步,经N次图像采集后,信号处理器调整光程相关器的两束输出光束的光程使其回到初始值;
第八步,信号处理器将采集到的N幅图像经解调算法处理后形成组织层析图像;
第九步,图像显示器接收来自信号处理器的组织层析图像信号并进行显示。
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