[发明专利]一种同心圆环结构的差动式SiC电容压力传感器及其制备方法在审
申请号: | 202010650296.7 | 申请日: | 2020-07-08 |
公开(公告)号: | CN111879447A | 公开(公告)日: | 2020-11-03 |
发明(设计)人: | 周圣军;万泽洪;徐浩浩 | 申请(专利权)人: | 武汉大学 |
主分类号: | G01L1/14 | 分类号: | G01L1/14;G01L9/12;G01L23/12 |
代理公司: | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 | 代理人: | 王丹 |
地址: | 430072 湖*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 同心 圆环 结构 差动 sic 电容 压力传感器 及其 制备 方法 | ||
1.一种同心圆环结构的差动式SiC电容压力传感器,包括自下而上的SiC衬底(1)、p型SiC层(2)、复合层以及上极板(8),其中复合层由下极板(3)、电极(4)、连接电路(5)、绝缘层(6)与焊盘(7)组成;其特征在于:
所述的电极(4)包括第一电极(41)、第二电极(42)和第三电极(43),其中第三电极接地;所述的连接电路(5)包括第一连接电路(51)、第二连接电路(52)和第三连接电路(53);
所述的下极板(3)包括内下极板(31)和外下极板(32);内下极板(31)为圆形,外下极板(32)为与内下极板(31)同心的圆环形;外下极板(32)设有供第一连接电路(51)穿过的缺口,内下极板(31)通过第一连接电路(51)与第一电极(41)连接,外下极板(32)通过第二连接电路(52)与第二电极(42)连接;
所述的上极板(8)包括内上极板(81)、外上极板(82)和连接板(83);内上极板(81)为位于内下极板(31)正上方、开口朝下的圆形框体;外上极板(82)为位于外下极板(32)正上方、开口朝下的圆环形框体;内上极板(81)与外上极板(82)之间通过连接板(83)连接;上极板(8)通过第三连接电路(53)与第三电极(43)连接;
所述的焊盘(7)为三个,分别与所述的第一电极(41)、第二电极(42)和第三电极(43)连接,用于通过焊接与外部电路形成电接触;
所述的绝缘层(6)覆盖在下极板(3)、连接电路(5)的四周及表面,同时包围住电极(4)与焊盘(7)的四周,将上极板(8)与内下极板(31)、外下极板(32)、以及第一连接电路(51)隔开,使得下极板(3)与上极板(8)形成同心圆环电容结构。
2.根据权利要求1所述的同心圆环结构的差动式SiC电容压力传感器,其特征在于:所述的p型SiC层(2)厚度为2μm±0.1μm。
3.根据权利要求1所述的同心圆环结构的差动式SiC电容压力传感器,其特征在于:所述的内下极板(31)和外下极板(32)的厚度均为2±0.1μm。
4.根据权利要求1所述的同心圆环结构的差动式SiC电容压力传感器,其特征在于:所述的内上极板(81)、外上极板(82)和连接板(83)的厚度均为2~3μm;圆形框体和圆环形框体的高度均为6μm±0.2μm。
5.根据权利要求1所述的同心圆环结构的差动式SiC电容压力传感器,其特征在于:所述的第一电极(41)、第二电极(42)和第三电极(43)均为正方形,边长至少为250μm。
6.根据权利要求1所述的同心圆环结构的差动式SiC电容压力传感器,其特征在于:所述的连接电路(5)为重掺杂的n型SiC层。
7.根据权利要求1所述的同心圆环结构的差动式SiC电容压力传感器,其特征在于:所述的第一连接电路(51)与第二连接电路(52)呈180°分布,第三连接电路(53)分别与第一连接电路(51)、第二连接电路(52)之间夹角均为90°。
8.根据权利要求1所述的同心圆环结构的差动式SiC电容压力传感器,其特征在于:所述的绝缘层(6)最大厚度处厚度为2.4±0.13μm,最薄处厚度为0.3±0.03μm。
9.根据权利要求1所述的同心圆环结构的差动式SiC电容压力传感器,其特征在于:所述的焊盘(7)包括焊盘底层金属(71)和焊盘顶层金属(72),焊盘底层金属(71)的厚度为300nm±20nm,通过高温退火与电极(4)形成欧姆接触,焊盘顶层金属(72)厚度为100nm±10nm,通过焊接与外部电路形成电接触。
10.权利要求1所述的同心圆环结构的差动式SiC电容压力传感器的制备方法,其特征在于:本方法包括以下步骤:
S1、在SiC衬底(1)上依次外延p型SiC层(2)和n型SiC层;
S2、依据下极板(3)、连接电路(5)以及电极(4)的结构,图形化n型SiC层,形成所述的下极板(3)、连接电路(5)以及电极(4);
S3、沉积绝缘层(6);
S4、在绝缘层(6)上沉积硅作为牺牲层;
S5、依据上极板(8)的形状,图形化牺牲层;
S6、在图形化后的牺牲层上沉积SiC,形成所述的上极板(8);
S7、图形化上极板(8),形成刻蚀孔;
S8、释放牺牲层;
S9、对所述的刻蚀孔进行填埋。
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