[发明专利]清洁装置

说明书

本发明提供一种防着板，其包括靶材区，所述靶材区包括靶材和附着在所述靶材上的污染物；清洁装置，所述清洁装置包括：本体；定位模块，所述定位模块设置在所述本体上，所述定位模块用于定位所述污染物在所述靶材区上的位置，当使用所述定位模块定位所述污染物时，所述定位模块与所述靶材区相对设置；清洁模块，所述清洁模块用于对所述污染物进行清洁。该方案设置了具有定位模块和清洁模块的清洁装置，先通过定位模块对靶材区的污染物进行定位，再使用清洁模块对污染物进行清洁，提高了使用该防着板制备的薄膜的平整度。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种清洁装置。

背景技术

物理气相沉积(Physical Vapor Deposition，PVD)利用电浆或电弧的能量将靶材上的原子沉积到基材上形成薄膜。

当靶材纯度不高时，溅射过程中溅射的粒子团沉积在防着板靶材表面形成结瘤，使制备的薄膜表面平整度降低，造成薄膜导电率和透光率均下降。

故，有必要提供一种具有清洁功能的防着板，可以对靶材表面进行清洗。

发明内容

本发明的目的在于提供一种清洁装置，可以提高制备的薄膜的平整度。

本发明实施例提供了一种清洁装置，所述清洁装置设置在防着板上，所述防着板包括：

靶材区，所述靶材区包括靶材和附着在所述靶材上的污染物；

所述清洁装置包括：

本体；

定位模块，所述定位模块设置在所述本体上，所述定位模块用于定位所述污染物在所述靶材区上的位置，当使用所述定位模块定位所述污染物时，所述定位模块与所述靶材区相对设置；

清洁模块，所述清洁模块用于对所述污染物进行清洁。

在一实施例中，所述防着板还包括：

非靶材区，所述非靶材区围绕所述靶材区设置；

所述清洁装置还包括滑动模块，所述滑动模块包括：

第一轴、第二轴、第三轴、第四轴、第五轴、第六轴以及第七轴，其中所述第一轴、所述第二轴、所述第三轴、所述第四轴、所述第五轴以及所述第六轴设置在所述非靶材区，所述第七轴上设置所述清洁模块，使所述清洁模块沿所述第七轴滑动；

所述第二轴与所述第一轴平行；

所述第三轴的一端与所述第一轴的一端固定，且所述第三轴与所述第一轴相互垂直；

所述第四轴的一端与所述第一轴的另一端固定，所述第四轴与所述第一轴相互垂直，且所述第四轴与所述第三轴相互平行；

所述第五轴的一端与所述第二轴的一端固定，所述第五轴与所述第二轴相互垂直，且所述第五轴与所述第三轴平行；

所述第六轴的一端与所述第二轴的另一端固定，所述第六轴与所述第二轴相互垂直，所述第六轴与所述第五轴相互平行，且所述第六轴与所述第四轴相互平行；

所述第七轴沿所述第四轴和所述第六轴滑动，所述第七轴沿所述第一轴和所述第二轴滑动，且所述第七轴沿所述第三轴和所述第五轴滑动。

在一实施例中，所述清洁装置还包括:

控制模块，所述控制模块用于控制所述清洁模块在所述第七轴上的滑动速度和滑动方向，所述控制模块还用于控制所述第七轴的滑动速度和滑动方向。

在一实施例中，所述清洁模块还包括：

第一清洁模块，所述第一清洁模块设置在所述本体的一侧；