[发明专利]曝光装置及曝光方法、以及平面显示器制造方法

说明书

曝光装置及曝光方法、以及平面显示器制造方法。控制系，根据用以补偿因多个格子区域(RG)(标尺(152))、多个读头(66a～66d)、以及基板保持具(34)的移动的至少一个而产生的包含编码器系统的测量系的测量误差的修正信息、以及以测量系测量的位置信息，控制基板保持具的驱动系，多个读头分别在基板保持具于X轴方向的移动中，来自读头的测量光束从多个格子区域(RG)的一个脱离，且移至相邻的另一格子区域(RG)。

本发明为申请日为2016年9月29日，申请号为“201680057225.8”，发明名称为“曝光装置及曝光方法、以及平面显示器制造方法”的发明专利的分案申请。

技术领域

本发明是关于曝光装置及曝光方法、以及平面显示器制造方法，更详言之，是关于用在制造液晶显示组件等微型组件的微影制程的曝光装置及曝光方法、以及使用曝光装置或曝光方法的平面显示器制造方法。

背景技术

以往，在制造液晶显示组件、半导体组件(集成电路等)等电子组件(微型组件)的微影制程中，使用步进扫描方式的曝光装置(所谓扫描步进机(亦称为扫描机))等，其一边使光罩(photomask)或标线片(以下总称为「光罩」)与玻璃板或晶片(以下总称为「基板」)沿着既定扫描方向(SCAN方向)同步移动，一边将形成在以能量光束照明的光罩的图案转印至基板上。

作为此种曝光装置，已知有使用基板载台装置所具有的棒反射镜(长条的镜)求出曝光对象基板在水平面内的位置信息的光干涉仪系统(参照例如专利文献1)。

此处，在使用光干涉仪系统求出基板的位置信息的情形，无法忽视所谓空气摇晃的影响。又，上述空气摇晃的影响，虽能藉由使用编码器系统来减低，但因近年来基板的大型化，难以准备能涵盖基板全移动范围的标尺。

先行技术文献

[专利文献1]美国专利申请公开第2010/0018950

发明内容

用以解决课题的手段

根据本发明的第1方案，提供一种曝光装置，透过投影光学系以照明光使基板曝光，其具备：移动体，配置于所述投影光学系的下方，保持所述基板；驱动系，能在与所述投影光学系的光轴正交的既定平面内在彼此正交的第1方向、第2方向上移动所述移动体；测量系，设置成在所述第1方向上多个格子区域彼此分离配置的格子构件、与对所述格子构件分别照射测量光束且能在所述第2方向上移动的多个第1读头中的一方设于所述移动体，且所述格子构件与所述多个第1读头中的另一方与所述移动体相向，所述测量系具有测量在所述第2方向的所述多个第1读头的位置信息的测量装置，根据所述多个第1读头中所述测量光束照射于所述多个格子区域中的至少一个格子区域的至少三个第1读头的测量信息与所述测量装置的测量信息，测量至少在所述既定平面内的3自由度方向的所述移动体的位置信息；以及控制系，根据用以补偿因所述格子构件、所述多个第1读头及所述移动体的移动的至少一个而产生的所述测量系的测量误差的修正信息、以及以所述测量系测量的位置信息，控制所述驱动系；所述多个第1读头，分别在所述移动体往所述第1方向的移动中，所述测量光束从所述多个格子区域中的一个格子区域脱离且移至与所述一个格子区域相邻的另一格子区域。