[发明专利]使用同轴波导的等离子体装置以及基板处理方法

权利要求书

1.一种等离子体装置，包括：

同轴波导，其具有内导体和包围该内导体的外导体，其中在外导体和内导体之间设置有第一间隙，所述同轴波导具有在多个分支部处分支的形状；

多个杆，其具有导体和包围该导体的电介质，其中在电介质和导体之间设置有第二间隙，所述多个杆连接在分支部处分支的同轴波导的两个端部，以连接第一间隙和第二间隙；以及

导电桩，其设置在同轴波导的通过在分支部处分支而获得的分支部分，所述导电桩可插入第一间隙并且可从第一间隙移除。

2.根据权利要求1所述的等离子体装置，其中，

所述同轴波导具有微波引入部和多个端部，该多个端部通过在多个分支部处分支而获得；并且

所述导电桩设置在第一分支部，该第一分支部是多个分支部中最靠近微波引入部的分支部。

3.根据权利要求2所述的等离子体装置，其中，所述第一分支部使从微波引入部引导到同轴波导的微波沿三个方向分支。

4.根据权利要求2或3所述的等离子体装置，其中，

所述多个杆大致平行地布置，分为中心杆和将中心杆夹在中间的两个边缘杆；并且

所述第一分支部是确定是否是微波引入部连接到中心杆还是微波引入部连接到边缘杆的分支部。

5.根据权利要求1至3中任一项所述的等离子体装置，包括设置在所述多个杆下方的基座。

6.根据权利要求1至3中任一项所述的等离子体装置，其中，所述导电桩设置为多个。

7.根据权利要求1至3中任一项所述的等离子体装置，其中，在平面图中，多个所述导电桩包围内导体。

8.根据权利要求1至3中任一项所述的等离子体装置，其中，所述导电桩为圆柱状或棱柱状。

9.根据权利要求1至3中任一项所述的等离子体装置，其中，所述导电桩的面向内导体的表面具有与内导体的表面形状相同的形状。

10.一种基板处理方法，包括：

将气体提供到室中；

通过将桩插入同轴波导的分支部中来分配微波的功率，将微波从微波引入部引导，然后将微波提供到由多个杆的电介质覆盖的空间中，以使等离子体在电介质外部被室包围的空间中产生；以及

用等离子体处理基板。

11.根据权利要求10所述的基板处理方法，其中，所述多个杆的电场强度不均匀。

12.根据权利要求11所述的基板处理方法，其中，

所述多个杆大致平行地布置，分为中心杆和将中心杆夹在中间的两个边缘杆。