[发明专利]基于核壳Au@SiO2有效

专利信息
申请号: 202010656366.X 申请日: 2020-07-09
公开(公告)号: CN111842073B 公开(公告)日: 2022-09-20
发明(设计)人: 张海斌;刘红;程云涛 申请(专利权)人: 中国科学院光电技术研究所
主分类号: B05D5/06 分类号: B05D5/06;B05D7/14;B05D7/24;B05D1/00;B22F1/16;B22F1/07;C23C14/35;C23C14/14
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 610209 *** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 基于 au sio base sub
【说明书】:

发明公开了一种基于核壳Au@SiO2超原子的无序结构超材料及其自组装制备方法,涉及自组装超材料技术领域。所述无序结构超材料是由核壳Au@SiO2超原子层与Al膜层复合而成;自组装制备工艺是在溶液环境下,通过设计核壳Au@SiO2超原子与Al膜之间的静电吸附及毛细作用而实现。光学性能综合表征显示,由核壳Au@SiO2超原子自组装制备的无序结构超材料,在可见光波段特定光入射角度下,能够实现近完美吸收光学性质(不同偏振状态,波长537nm、575nm位置光吸收率大于99%)。

技术领域

本发明涉及自组装超材料技术领域,特别涉及一种基于核壳Au@SiO2超原子的无序结构超材料及其自组装制备方法。

背景技术

在自组装超材料技术的研究发展中,核壳Metal@SiO2纳米结构(即金属与电介质SiO2形成的核壳纳米包裹结构,例如Au@SiO2、Ag@SiO2等)是一种特殊的、具有应用潜质的超原子结构。理论上,Metal@SiO2纳米结构可与一定频率的入射电磁波相互作用而形成表面等离激元,通过人工结构设计,这些表面等离激元相互间易于发生共振耦合,从而有利于实现诸如“拓扑黑体”、“吸波器”、“隐身罩”等可见-近红外波段有望面向实际应用的光学超材料。

然而,由于受制于核壳Metal@SiO2纳米结构合成制备产率低以及适宜自组装技术缺乏等影响,当前利用核壳Metal@SiO2纳米结构作为超原子进行光学超材料自组装设计、制备 (Metal@SiO2相互之间,或与其他金属结构进行复合)的研究设想尚未能得到广泛推广。因此现阶段,探索基于核壳Metal@SiO2超原子的超材料自组装制备及其光学特性研究有着重要的实际意义。

发明内容

本发明针对现有核壳Metal@SiO2纳米结构合成制备产率低以及设计相应光学超材料适宜自组装技术缺乏等问题,提出了一种全新的、基于核壳Au@SiO2超原子的无序结构超材料及其自组装制备方法,其未来有望应用于等离子体传感、光伏器件、太阳能电池等领域。

本发明采用的技术方案为:一种基于核壳Au@SiO2超原子的无序结构超材料,所述无序结构超材料是由核壳Au@SiO2超原子层与Al膜层复合而成,其中,核壳Au@SiO2超原子层是以无序取向、随机密排方式铺叠在Al膜层表面,单个核壳Au@SiO2超原子大小均匀,其粒径在百纳米级,Al膜层厚度大于可见光趋肤深度,可见光波段特定光入射角度下,不同偏振状态的自组装无序结构超材料能够实现近完美吸收光学性质。

所使用的核壳Au@SiO2超原子包含Au纳米颗粒内核及SiO2介质壳层,其中Au纳米颗粒尺寸约为45nm,SiO2介质壳层厚度为85~100nm;核壳Au@SiO2超原子的自组装层数为3~5层;无序结构超材料在可见光波段的TE、TM偏振近完美光吸收峰分别位于波长537nm和575nm位置附近,其对应的光入射角度为44~48°。

本发明基于核壳Au@SiO2超原子的无序结构超材料自组装制备方法,包含如下操作步骤:

步骤S1:将洁净基片置于真空镀膜系统中,镀制大于80nm厚度的金属Al膜层后,将镀制有Al膜层的基片浸泡于PDDA水溶液(浓度大于1g/L)中30min,使其表面带上正电荷,然后依次使用去离子水、无水乙醇冲洗干净基片,N2吹干备用;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院光电技术研究所,未经中国科学院光电技术研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010656366.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top