[发明专利]一种以核径迹蚀刻膜为基膜的疏水/亲水复合膜及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种以核径迹蚀刻膜为基膜的疏水/亲水复合膜，其特征在于，所述核径迹蚀刻膜为聚对苯二甲酸乙二醇酯核孔膜；所述疏水/亲水复合膜的一面为疏水性的聚偏氟乙烯膜，90°～100°；另一面为亲水性的聚对苯二甲酸乙二醇酯核孔膜，水接触角为55°～65°。

2.根据权利要求1所述的疏水/亲水复合膜，其特征在于，所述疏水/亲水复合膜的厚度为50～70μm；孔隙率为50％～80％；孔径分布范围为0.05μm～0.3μm；透气性为0.6～2.0L·cm^-2·min^-1；拉伸强度为15～20MPA。

3.一种权利要求1所述的疏水/亲水复合膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

(1)将亲水性的聚对苯二甲酸乙二醇酯核孔膜粘贴到玻璃板上；

(2)制备聚偏氟乙烯铸膜液：将聚偏氟乙烯、有机溶剂、添加剂混合后加入反应器中，搅拌进行反应，反应结束后将反应液静置脱泡，得到聚偏氟乙烯铸膜液；

(3)将步骤(2)得到的聚偏氟乙烯铸膜液用刮刀刮涂在步骤(1)中粘在玻璃板上的聚对苯二甲酸乙二醇酯核孔膜上，然后将玻璃板浸入第一凝固浴中，5min后待其相分离后取出用去离子水冲洗，得到位于玻璃板上的聚对苯二甲酸乙二醇酯核孔膜和聚偏氟乙烯膜；

(4)将步骤(3)制得的位于玻璃板上的聚对苯二甲酸乙二醇酯核孔膜和聚偏氟乙烯膜转入第二凝固浴中浸泡，脱除残留的有机溶剂和添加剂后进行清洗，得到聚偏氟乙烯膜与聚对苯二甲酸乙二醇酯核孔膜复合的疏水/亲水复合膜。

4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，步骤(1)中所述有机溶剂选自N,N-二甲基甲酰胺(DMF)、N,N-二甲基乙酰胺(DMAc)、N-甲基吡咯烷酮(NMP)一种或者几种。

5.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，步骤(1)中所述添加剂为致孔剂，其包括选自氯化锂的第一类添加剂、选自聚乙二醇的第二类添加剂、选自丙酮或乙醇的第三类添加剂、以及选自水或甘油的第四类添加剂。

6.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，步骤(2)中反应温度为50℃～70℃；反应时间为8h～12h；静置脱泡在常温下进行，静置脱泡为8h～12h。

7.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，步骤(3)中选用100μm厚度的刮刀，将聚偏氟乙烯铸膜液刮涂在步骤(1)中粘在玻璃板上的聚对苯二甲酸乙二醇酯核孔膜上，使其在聚对苯二甲酸乙二醇酯核孔膜上形成聚偏氟乙烯液膜。

8.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，步骤(3)中第一凝固浴选自甲醇、乙醇、丙醇、水中的一种或者几种组合；凝固时间为3～5分钟；步骤(4)中第二凝固浴选用去离子水，浸泡时间为24h～48h。

9.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，步骤(1)中所述聚对苯二甲酸乙二醇酯核孔膜为核径迹蚀刻膜，厚度11μm，孔径1μm，3μm、5μm中的一种或者几种。

10.一种权利要求1所述的疏水/亲水复合膜用于膜蒸馏的应用。