[发明专利]精密定位平台Pitch值的测量系统及方法

说明书

本发明公开了一种精密定位平台Pitch值的测量系统及方法，该系统包括：测量底座；测量模块，测量精密定位平台的第一轴和第二轴上各坐标点对应的距离值；计算模块，计算精密定位平台的第一轴和第二轴上各坐标点对应的Pitch值；优化模块，根据各坐标点对应的Pitch值拟合出各坐标点与Pitch值的二维曲线，并以二维曲线的第一个点为基准点，将Pitch值高于或低于基准点对应的Pitch值的坐标点作为待调节点，并根据基准点对应的Pitch值对待调节点对应的Pitch值进行优化。本发明能够有效测量精密定位平台的Pitch值，具有测量结果准确性高，结构简单，调节简便，成本低，工作效率高的优点。

技术领域

本发明涉及精密定位控制技术领域，尤其是涉及一种精密定位平台Pitch值的测量系统及方法。

背景技术

精密定位平台的Pitch值是衡量精密定位平台动态特性的一个重要参数，包括滑轨本身的精度等级、滑轨安装调试的效果、光栅尺与滑轨的搭配效果、安装底板的结构刚性等，都是影响Pitch值的主要因素。Pitch值在精密定位平台主要影响工作台面动态平面度，如果平面度较差，会导致直写光刻机在曝光过程中出现离焦，导致曝光图形解析不良等缺陷。

传统的精密定位平台Pitch值的测量方式主要是利用激光干涉仪，沿着轴运行的方向，测量出每个位置处Pitch值的变化。但采用激光干涉仪价格昂贵，组装调试过程复杂，且测试环境要求极高，无法保证精密定位平台Pitch值测量的准确度，不能有效的评估精密定位平台Pitch值带给直写光刻曝光系统的误差精度，很难保证直写光刻曝光设备曝光图形的良率。

发明内容

本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。

为此，本发明的一个目的在于提出一种精密定位平台Pitch值的测量系统，该系统能够有效测量精密定位平台的Pitch值，具有测量结果准确性高，结构简单，调节简便，成本低，工作效率高的优点。

为此，本发明的另一个目的在于提出一种精密定位平台Pitch值的测量方法。

为实现上述目的，本发明第一方面的实施例公开了一种精密定位平台Pitch值的测量系统，包括：测量底座，所述测量底座上安装有所述精密定位平台的第一轴，且所述精密定位平台的第二轴安装在所述第一轴上；测量模块，所述测量模块安装在所述测量底座上，用于在所述精密定位平台移动时，测量所述精密定位平台的第一轴和第二轴上各坐标点对应的距离值；计算模块，用于根据所述第一轴和第二轴上各坐标点对应的距离，计算所述精密定位平台的第一轴和第二轴上各坐标点对应的Pitch值；优化模块，所述优化模块安装在所述测量底座上，用于根据各坐标点对应的Pitch值拟合出各坐标点与Pitch值的二维曲线，并以所述二维曲线的第一个点为基准点，将Pitch值高于或低于所述基准点对应的Pitch值的坐标点作为待调节点，并根据所述基准点对应的 Pitch值对所述待调节点对应的Pitch值进行优化。

根据本发明实施例的精密定位平台Pitch值的测量系统，在精密定位平台移动时，测量精密定位平台的第一轴和第二轴上各坐标点对应的距离值；根据第一轴和第二轴上各坐标点对应的距离，计算精密定位平台的第一轴和第二轴上各坐标点对应的Pitch值，并通过优化模块对计算的Pitch值进行优化。即该测量系统能够计算精密定位平台各轴上各坐标点对应的Pitch值，并对Pitch值进行优化，从而可提高测量结果的准确性，另外，还具有结构简单，调节简便，成本低，易操作，工作效率高的优点。

另外，本发明实施例的精密定位平台Pitch值的测量系统还可以具有如下附加的技术特征：