[发明专利]一种小压力的高精度脉冲加热邦定装置及邦定方法在审
申请号: | 202010665884.8 | 申请日: | 2020-07-12 |
公开(公告)号: | CN111640700A | 公开(公告)日: | 2020-09-08 |
发明(设计)人: | 魏静;田辉;冯艳江;王国昌;杜振鑫;孟祥生;饶钦;杨宝春;赵莹;菅卫娟;林斌;赵燕;潘强强 | 申请(专利权)人: | 中电科风华信息装备股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/60;H01L23/49 |
代理公司: | 太原科卫专利事务所(普通合伙) 14100 | 代理人: | 朱源 |
地址: | 030024 *** | 国省代码: | 山西;14 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 压力 高精度 脉冲 加热 装置 方法 | ||
1.一种小压力的高精度脉冲加热邦定装置,其特征在于:包括机架(1),机架(1)上固定有伺服电机(2)和竖直布置的滑轨(3),伺服电机(2)传动连接有丝杠副,伺服电机(2)驱动丝杠副的丝杆(4)旋转,滑轨(3)滑动嵌装有上滑块(6)和下滑块(7),丝杠副的丝母(5)与上滑块(6)固连,上滑块(6)上固定有气缸(8),气缸(8)的活塞杆(9)竖直朝下且固连下滑块(7),活塞杆(9)下端安装有邦定头(10),气缸(8)连接有控制其开闭的电磁阀和控制其预设压力大小的电气比例阀,气缸(8)的活塞杆(9)处于最大伸长状态;还包括控制器,控制器连接电磁阀、电气比例阀和伺服电机(2)。
2.一种如权利要求1所述的邦定装置的邦定方法,其特征在于,包括以下步骤:
S1、打开气缸的电磁阀,并通过电气比例阀给气缸(8)预设一个压力F1,F1保证气缸(8)在启动时活塞杆(9)能够克服下滑块(7)与滑轨(3)之间的最大静摩擦力,始终处于最长伸长状态,不会回缩;
S2、控制伺服电机(2)动作,使上滑块(6)和下滑块(7)皆以速度V1沿滑轨(3)向下滑动;
S3、在下滑块(7)开始滑动后邦定头(10)接触产品前将气缸(8)的预设力减小至F2, F2对应邦定压力设置;
S4、在邦定头(10)距离产品3-5mm时,控制伺服电机(2)动作,将速度V1减小至V2,V2和F2保证邦定头(10)在刚接触产品时的瞬间压力小于产品能承受的最大邦定压力,保持V2和F2使邦定头(10)继续向下运动直至邦定头(10)完全贴合产品表面时伺服电机(2)停止动作,邦定头(10)以所需邦定压力进行邦定;
S5、邦定完成后,控制气缸(8)、伺服电机(2)复位,等待下次邦定。
3.根据权利要求2所述的邦定方法,其特征在于:电气比例阀采用电流控制。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造