[发明专利]基于鲁棒l1,2 在审
申请号: | 202010666297.0 | 申请日: | 2020-07-12 |
公开(公告)号: | CN111898653A | 公开(公告)日: | 2020-11-06 |
发明(设计)人: | 聂飞平;常伟;王榕;李学龙 | 申请(专利权)人: | 西北工业大学 |
主分类号: | G06K9/62 | 分类号: | G06K9/62 |
代理公司: | 西北工业大学专利中心 61204 | 代理人: | 常威威 |
地址: | 710072 *** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基于 base sub | ||
1.一种基于鲁棒l1,2范数约束的有监督降维方法,其特征在于步骤如下:
步骤1:对输入的高维数据集中的所有数据样本进行归一化处理,再采用主成分分析方法对数据样本进行降维处理,得到降维后数据;从降维后的数据中随机选择30%的数据作为训练数据集;
步骤2:构建如下基于l1,2范数约束的鲁棒降维优化模型:
其中,W∈Rd×m表示待求的投影矩阵,d表示原始高维数据的空间的维数,m表示利用矩阵W进行投影后的空间的维数;c表示输入的原始高维数据集中本身具有的所有类簇的个数;X为训练数据集,为数据集X中属于第i个类簇的样本集合,列向量xji表示数据矩阵Xi中第j个样本,j=1,....,ni,n表示所有数据样本的个数,ni表示第i个类簇中所有数据样本的个数;μi表示第i个类簇中所有数据样本的均值,1i为元素值均为1的ni维列向量;
步骤3:采用交替求解法对步骤2的基于l1,2范数约束的鲁棒降维优化模型进行求解,得到投影矩阵W,具体为:
步骤3.1:随机初始化投影矩阵W,使其满足WTW=I;将训练数据按照样本标签分配到c个类簇中,并计算每个类簇中所有数据的均值,得到初始的μi,i=1,2…,c;
步骤3.2:按下式计算参数λ:
步骤3.3:计算对角矩阵Di,i=1,2…,c,其第j个对角元素为j=1,2,...,ni;
步骤3.4:计算对角矩阵E,其第i个对角元素为
步骤3.5:按照公式更新每一个类簇的均值μi;
步骤3.6:按照下式计算矩阵A:
对矩阵A进行特征值分解,并以其前m个最小特征值对应的特征向量所组成的矩阵为更新后的投影矩阵W;
步骤3.7:如果|λt-λt-1|≤ε,则停止计算,此时得到的W即为最终的投影矩阵,λt表示当前计算得到的参数λ的值,λt-1表示上一次计算得到的λ的值,阈值ε=10-6;否则,返回步骤3.2,进行下一次迭代计算;
步骤4:按照Y=WTX进行投影计算,得到降维后的数据矩阵Y。
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