[发明专利]目标成像方法、装置、电子设备和存储介质有效

专利信息
申请号: 202010666577.1 申请日: 2020-07-13
公开(公告)号: CN111553839B 公开(公告)日: 2020-10-23
发明(设计)人: 汪远;王球 申请(专利权)人: 南京微纳科技研究院有限公司
主分类号: G06T3/00 分类号: G06T3/00
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 虞浩;刘芳
地址: 211800 江苏省南京市江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 目标 成像 方法 装置 电子设备 存储 介质
【权利要求书】:

1.一种目标成像方法,其特征在于,应用于穿戴物,所述穿戴物包括透明基体以及附着在所述透明基体出射表面的变换光学层,所述方法,包括:

获取待处理目标的反射光线作为所述透明基体的入射表面的入射光线;

利用所述变换光学层对所述入射光线进行相位补偿,以生成所述穿戴物的出射光线,所述出射光线用于成像所述待处理目标对应的处理目标图像,所述相位补偿用于改变光线在表面结构中的传播路径;

所述利用所述变换光学层对所述入射光线进行相位补偿,包括:

确定所述待处理目标中第一区域的反射光线的第一相位和第一振幅,所述第一相位表示所述反射光线的传播方向,所述第一振幅表示所述待处理目标的物理特征;

利用美容算法,根据所述第一振幅,确定目标振幅,所述美容算法包括:瑞丽索墨菲衍射公式以及菲涅尔衍射公式;

利用预设衍射算法,根据所述第一振幅,确定待训练振幅,所述预设衍射算法包括:瑞丽索墨菲衍射公式以及菲涅尔衍射公式;

将所述待训练振幅与第二相位组合成待训练光波;

利用衍射光学模型,根据所述目标振幅,对所述待训练光波进行迭代训练,确定目标相位,所述衍射光学模型包括:瑞丽索墨菲衍射公式以及菲涅尔衍射公式;

利用预设补偿算法,根据目标相位与第一相位,确定补偿相位。

2.根据权利要求1所述的目标成像方法,其特征在于,所述变换光学层的不同区域具备不同的表面结构特征;对应的,所述利用所述变换光学层对所述入射光线进行相位补偿,包括:

利用所述变换光学层对所述待处理目标不同区域所对应的入射光线进行不同的相位补偿。

3.根据权利要求2所述的目标成像方法,其特征在于,在所述利用所述变换光学层对所述待处理目标不同区域所对应的入射光线进行不同的相位补偿之前,还包括:

利用特征提取模型提取待处理目标的特征;

根据相位补偿模型以及所述特征,确定补偿相位分布;

根据所述补偿相位分布确定所述变换光学层各个区域的表面结构特征。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的目标成像方法,其特征在于,所述穿戴物包括:面罩以及纱巾。

5.根据权利要求4所述的目标成像方法,其特征在于,当所述穿戴物为纱巾时,穿戴方式包括:贴身穿戴式、披斗篷式、遮全身伞状式。

6.根据权利要求1-3中任一项所述的目标成像方法,其特征在于,所述变换光学层包括:超表面、波导、液晶中的一种或多种。

7.根据权利要求1-3中任一项所述的目标成像方法,其特征在于,所述穿戴物的表面形状为平面、或者球面、或者圆柱面、或者多边形组合面、或者柔性可弯曲变形曲面。

8.根据权利要求1-3中任一项所述的目标成像方法,其特征在于,所述透明基体的材料包括:塑料、玻璃、蚕丝。

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