[发明专利]防尘薄膜组件

说明书

提供一种在防尘薄膜组件框架的角部没有疑似异物，从而提高异物检查的精度，由此减少防尘薄膜组件制品的不合格率。使防尘薄膜组件框架的内侧面和上端面以及下端面所成的角部从截面来看为大略曲线状，特别是，防尘薄膜组件框架的内侧面和上端面以及下端面所成的各角部为被C倒棱的防尘薄膜组件中，防尘薄膜组件框架的内侧面和该C倒棱面形成的C倒棱面所成的角部被R倒棱或C倒棱。

本申请是申请日为2017年1月4日、申请号为201710003770.5、发明名称为“防尘薄膜组件”的申请的分案申请。

技术领域

本发明涉及半导体装置，IC封装体，印刷基板，液晶面板或有机EL面板等的制造时，作为光掩模的防尘器而使用的防尘薄膜组件。

背景技术

LSI，超LSI等的半导体制造或液晶表示板等的制造中，要向半导体晶片或液晶用原板照射光进行图案制作，在该场合使用的曝光原板(光刻用掩模)如有灰尘附着，该灰尘就会被光吸收，使光弯曲，这样就会发生转印的图案会变形，尖端不齐，还会使基底黑污，寸法，品质，外观等的问题。

由此，这些的作业通常在无尘室中进行，但是即使在该无尘室中，要保持曝光原板的经常清净也是困难的，所以，作为曝光原板的表面的防尘器一般贴附可以良好透过曝光光的防尘薄膜组件的方法。该场合，灰尘不在曝光原版的表面上直接附着，而是在防尘薄膜组件膜上附着，所以只要在光刻时将焦点对准曝光原版的图案上，防尘薄膜组件膜上的灰尘对转印的图案就没有影响。

防尘薄膜组件的基本的结构为，包括，进行了黑色氧化处理以及丙烯酸系电着涂装树脂涂布的铝合金制的防尘薄膜组件框和，该防尘薄膜组件框的上端面通过丙烯酸树脂，环氧树脂以及氟树脂等的接着剂接着的使曝光使用的光良好透过的硝化纤维素，醋酸纤维素，氟系聚合物等构成的透明的防尘薄膜组件膜和，为了将防尘薄膜组件在曝光原版上装着的在防尘薄膜组件框的下端面涂布的聚丁烯树脂，聚醋酸乙烯基树脂，丙烯酸树脂，硅树脂等构成的粘着剂层和，以该粘着剂层的保护为目的附于粘着剂层的粘着剂保护用片(例如，专利文献1，2参照)。

另外，专利文献3，公开了防尘薄膜组件框架的防尘薄膜组件膜接着面以及曝光原版接着面和框架内外侧面所成的角部进行了C倒棱，在曝光原版接着面的倒棱面的寸法为比C0.35大，C0.55以下的光刻用防尘薄膜组件。

现有技术文献

专利文献

专利文献1特开昭58－219023号公报

专利文献2美国专利第4861402号说明书

专利文献3特开2009－251022号公报

防尘薄膜组件为，围绕掩模基板的表面形成的图案领域而设置的。防尘薄膜组件是为了防止在掩模基板上有灰尘为附着的而设置的，该图案领域和防尘薄膜组件外部被分开，从而不使防尘薄膜组件外部的灰尘在图案面上附着。

近年，LSI的设计在向四分之一微米以下的微细化前进，由此，作为抑制对象的粒子的尺寸也越来越小。由此，不仅防尘薄膜组件框架的内侧面，而对上下端面和内侧面的境界角部部分以及上下端面和内侧面之间的C倒棱面附近的角部部分的粒子进行管理的必要性也越来越高了。

上述的那样的上下端面和内侧面的境界角部部分以及上下端面和内侧面之间的C倒棱面附近的角部，在防尘薄膜组件框架金属加工时以及框架皮膜形成时，以及防尘薄膜组件制造工程中发生的伤以及突起，有可能在防尘薄膜组件异物检查时会被看成粒子，被判定为疑似异物，所以有严格管理的必要。