[发明专利]液晶显示面板制备方法和液晶显示面板有效
申请号: | 202010667586.2 | 申请日: | 2020-07-13 |
公开(公告)号: | CN111781774B | 公开(公告)日: | 2021-08-03 |
发明(设计)人: | 黄敏;陈剑鸿 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
主分类号: | G02F1/1337 | 分类号: | G02F1/1337;G02F1/1333 |
代理公司: | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人: | 王芳芳 |
地址: | 518132 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 液晶显示 面板 制备 方法 | ||
1.一种液晶显示面板制备方法,其特征在于,包括:
提供第一衬底、第二衬底;
在所述第一衬底上制备得到第一配向层,形成第一基板;
在所述第二衬底上制备得到第二配向层,形成第二基板;
将所述第一基板和所述第二基板对盒设置制备得到液晶盒,并往所述液晶盒注入液晶分子;
通过紫外光垂直照射所述第一基板/所述第二基板;
在紫外光照射方向上形成/放置有至少一个能量补偿装置,所述能量补偿装置包括形成在所述第一衬底或所述第二衬底内侧表面的具有负折射特性的金属层和/或放置在所述液晶显示面板外侧的光学构件,所述光学构件用于调控紫外光的传播方向,将平行状态的紫外光改变为发散状态,使所述第一基板内侧的第一液晶分子和所述第二基板内侧的第二液晶分子之间预倾角的角度差大于预设角度。
2.如权利要求1所述的液晶显示面板制备方法,其特征在于,在形成/放置有至少一个能量补偿装置的步骤中,还包括:
所述第一基板为阵列基板,所述能量补偿装置包括具有负折射特性的金属层,在所述第一衬底内侧的表面蒸镀形成所述具有负折射特性的金属层。
3.如权利要求1所述的液晶显示面板制备方法,其特征在于,在形成有至少一个能量补偿装置的步骤中,还包括:
所述第一基板为阵列基板,所述紫外光从所述第二基板的外侧照射向所述第一基板,所述能量补偿装置包括反射构件,在所述第一衬底外侧放置反射构件,所述反射构件将光线反射至第一基板内侧区域。
4.如权利要求3所述的液晶显示面板制备方法,其特征在于,在放置反射构件的步骤中,还包括:
所述反射构件包括反射层、以及第一调控系统,在紫外光传播的路径上,将所述反射层放置在所述第一基板外侧,再将所述反射层与所述第一调控系统电连接,通过所述第一调控系统对所述反射层的反射强度进行调控。
5.如权利要求1所述的液晶显示面板制备方法,其特征在于,在形成/放置有至少一个能量补偿装置的步骤中,还包括:
所述第一基板为阵列基板,所述紫外光从所述第一基板的外侧照射向所述第二基板,所述能量补偿装置包括光学构件,在所述第一衬底外侧放置光学构件,所述光学构件用于调控紫外光的传播方向,将平行状态的紫外光改变为发散状态。
6.如权利要求5所述的液晶显示面板制备方法,其特征在于,在放置光学构件的步骤中,还包括:
所述光学构件包括光学器件组、以及第二调控系统,在紫外光传播的路径上,将所述光学器件组放置在所述第一基板外侧,再将所述光学器件组与所述第二调控系统电连接,通过所述第二调控系统对所述光学器件组的光线发散角度进行调控。
7.如权利要求1所述的液晶显示面板制备方法,其特征在于,在形成/放置有至少一个能量补偿装置的步骤中,还包括:
所述第二基板为彩膜基板,所述能量补偿装置包括具有负折射特性的金属层,在所述第二衬底内侧的表面蒸镀形成具有负折射特性的金属层。
8.如权利要求1所述的液晶显示面板制备方法,其特征在于,在形成/放置有至少一个能量补偿装置的步骤中,还包括:
所述第二基板为彩膜基板,所述紫外光从所述第一基板的外侧照射向所述第二基板,所述能量补偿装置包括反射构件,在所述第二衬底外侧放置反射构件,所述反射构件将光线反射至第二基板内侧区域。
9.如权利要求8所述的液晶显示面板制备方法,其特征在于,在放置反射构件的步骤中,还包括:
所述反射构件包括反射层、以及第一调控系统,在紫外光传播的路径上,将所述反射层放置在所述第二衬底外侧,再将所述反射层与所述第一调控系统电连接,通过所述第一调控系统对所述反射层的反射强度进行调控。
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