[发明专利]防尘薄膜组件

权利要求书

1.一种防尘薄膜组件框架在EUV曝光用防尘薄膜组件制造中的应用，其中，防尘薄膜组件框架的内侧面和上端面以及下端面所成的各角部从截面来看为大略曲线状。

2.根据权利要求1所述的应用，其特征在于，所述各角部被R倒棱。

3.根据权利要求1所述的应用，其特征在于，所述各角部被C倒棱，防尘薄膜组件框架的内侧面和该被C倒棱而形成的C倒棱面所成的角部，被R倒棱。

4.根据权利要求1所述的应用，其特征在于，所述各角部被C倒棱，防尘薄膜组件框架的内侧面和该被C倒棱形成的C倒棱面所成的角部，被第二次C倒棱。

5.根据权利要求4所述的应用，其特征在于，防尘薄膜组件框架的内侧面和所述被第二次C倒棱形成的二次C倒棱面所成的角部的角度以及所述C倒棱面和所述二次C倒棱面所成的角部的角度为比135°大。

6.根据权利要求4或5所述的应用，其特征在于，防尘薄膜组件框架的内侧面和所述被第二次C倒棱形成的二次C倒棱面所成的角部以及所述C倒棱面和所述二次C倒棱面所成的角部被R倒棱或被C倒棱。

7.根据权利要求1至6的任一项所述的应用，其特征在于，防尘薄膜组件框架被附与阳极氧化皮膜或丙烯酸系电着涂装树脂皮膜。

8.一种防尘薄膜组件框架在EUV曝光用防尘薄膜组件中的应用，其中，防尘薄膜组件框架的内侧面和上端面以及下端面所成的各角部从截面来看为大略曲线状。

9.根据权利要求8所述的应用，其特征在于，所述各角部被R倒棱。

10.根据权利要求8所述的应用，其特征在于，所述各角部被C倒棱，防尘薄膜组件框架的内侧面和该被C倒棱而形成的C倒棱面所成的角部，被R倒棱。

11.根据权利要求8所述的应用，其特征在于，所述各角部被C倒棱，防尘薄膜组件框架的内侧面和该被C倒棱形成的C倒棱面所成的角部，被第二次C倒棱。

12.根据权利要求11所述的应用，其特征在于，防尘薄膜组件框架的内侧面和所述被第二次C倒棱形成的二次C倒棱面所成的角部的角度以及所述C倒棱面和所述二次C倒棱面所成的角部的角度为比135°大。

13.根据权利要求11或12所述的应用，其特征在于，防尘薄膜组件框架的内侧面和所述被第二次C倒棱形成的二次C倒棱面所成的角部以及所述C倒棱面和所述二次C倒棱面所成的角部被R倒棱或被C倒棱。

14.根据权利要求8至13的任一项所述的应用，其特征在于，防尘薄膜组件框架被附与阳极氧化皮膜或丙烯酸系电着涂装树脂皮膜。

15.一种EUV曝光用防尘薄膜组件，其中，防尘薄膜组件框架的内侧面和上端面以及下端面所成的各角部从截面来看为大略曲线状。

16.根据权利要求15所述的防尘薄膜组件，其特征在于，所述各角部被R倒棱。

17.根据权利要求15所述的防尘薄膜组件，其特征在于，所述各角部被C倒棱，防尘薄膜组件框架的内侧面和该被C倒棱而形成的C倒棱面所成的角部，被R倒棱。

18.根据权利要求15所述的防尘薄膜组件，其特征在于，所述各角部被C倒棱，防尘薄膜组件框架的内侧面和该被C倒棱形成的C倒棱面所成的角部，被第二次C倒棱。