[发明专利]多位式坩埚定位方法及定位系统

说明书

本发明揭示了一种多位式坩埚定位方法，其包括对坩埚的多个承载位进行编码，获得编码信息，对坩埚的多个承载位进行到位检测，获得到位信息，根据编码信息和到位信息，获得坩埚的多个承载位的定位信息，根据定位信息控制电子枪蒸镀控制系统进行作业；本发明还揭示了一种多位式坩埚定位系统。本申请通过对坩埚的多个承载位进行编码，再将编码信息和承载位的到位信息一并形成坩埚承载位的定位信息，能够明确的知晓坩埚承载位的位号，并明确该位号所对应的坩埚承载位的到位情况，从而准确的判断出是否需要控制电子枪蒸镀控制系统进行作业；整个方法简单可靠，出错率低，且实现的成本低。

技术领域

本发明涉及真空镀膜技术领域，具体地，涉及一种多位式坩埚定位方法及定位系统。

背景技术

真空镀膜处理技术被广泛应用在光学元件及半导体集成电路中，在具体应用时，需要利用电子枪将坩埚内的蒸镀材料进行加热，并将蒸镀材料蒸发到光学元件表面形成光学膜。在一次镀膜周期内，通常需要镀多层不同材料的膜；因此需要电子枪配用多位式坩埚，即在坩埚的圆周依次设置有多个承载位，每个承载位内盛放有不同的蒸镀材料，工作中需要对坩埚进行旋转和定位，以便电子枪准确的对各承载位的蒸镀材料进行加热。例如，坩埚具有12个承载位，每一个承载位内均放置有不同的蒸镀材料，当需要那种材料进行蒸镀时，需要驱动坩埚旋转，使得具有该蒸镀材料的承载位能对应移动到电子枪所在的工作位，从而完成加热镀膜。因此，对于多位式坩埚的准确定位直接影响到了后续的镀膜质量。

在现有技术中，对于多位式坩埚的定位方法一般采用以下两种：

第一种为反馈法，即是在多位式坩埚的每个承载位的对应位置设置一个位置传感器，当坩埚的某个承载位达到电子枪所在的工作位时，则位置传感器对应动作，传递信号至控制器，由控制器控制电子枪进行工作。此种方法虽然简单可靠，但是当坩埚的承载位数量比较多时，需要设计的机械机构和电路会变得非常复杂，抬升成本。

第二种为计数法，即只采用一个位置传感器设置在电子枪工作位，在坩埚的每个承载位只设置传感器的触发结构，控制器对位置传感器的被触发次数进行计数，从而确定坩埚的那一个承载位到达了电子枪工作位，然后在进行是否启动电子枪的加热控制。此种方法的成本虽然降低了，但存在计数出错的风险，此外操作人员清理机器时如果用手转动了坩埚，就必须要重新对位调试，较为繁琐。

发明内容

针对现有技术的不足，本发明提供一种多位式坩埚定位方法以及定位系统。

本发明公开的一种多位式坩埚定位方法包括：

对坩埚的多个承载位进行编码，获得编码信息；

对坩埚的多个承载位进行到位检测，获得到位信息；

根据编码信息和到位信息，获得坩埚的多个承载位的定位信息。

根据本发明一实施方式，其还包括以下步骤：

根据定位信息控制电子枪蒸镀控制系统进行作业。

根据本发明一实施方式，对坩埚的多个承载位进行二进制编码，获得二进制编码信息。

根据本发明一实施方式，采用多个编码器配合对坩埚的多个承载位进行二进制编码。

根据本发明一实施方式，根据坩埚的承载位的数量选择编码器的数量。

根据本发明一实施方式，采用到位传感器对坩埚的多个承载位进行到位检测。

一种多位式坩埚的定位系统，包括：

编码模块，其用于对坩埚的多个承载位进行编码，并获得编码信息；

到位检测模块，其用于对坩埚的多个承载位进行到位检测，并获得到位信息；

控制模块，其分别与编码模块和到位检测模块连接；控制模块根据编码信息和到位信息获得坩埚的多个承载位的定位信息。