[发明专利]OLED阳极透明电极层及OLED显示装置的制造方法

权利要求书

1.一种OLED阳极透明电极层的制造方法，其特征在于，所述制造方法包括：

提供一基板，所述基板上具有并列独立设置的第一结构、第二结构及第三结构；

形成第一光阻图案于所述基板上，所述第一光阻图案仅曝露出所述第一结构的上表面；

形成第一透明导电层于所述第一结构的上表面，移除所述第一光阻图案；

形成第二光阻图案于所述基板上，所述第二光阻图案仅曝露出所述第二结构的上表面；

形成第二透明导电层于所述第二结构的上表面，移除所述第二光阻图案；

形成第三光阻图案于所述基板上，所述第三光阻图案仅曝露出所述第三结构的上表面；

形成第三透明导电层于所述第三结构的上表面，移除所述第三光阻图案。

2.如权利要求1所述的OLED阳极透明电极层的制造方法，其特征在于，所述形成第一光阻图案的程序包括：涂布第一光阻层于基板上，移除位于所述第一结构正上方的部分所述第一光阻层，以定义所述第一光阻图案；

所述形成第一透明导电层于所述第一结构的上表面的程序包括：形成一透明导电层于所述第一光阻图案与所述第一结构的上表面，移除所述第一光阻图案与位于所述第一光阻图案上表面的部分所述透明导电层。

3.如权利要求1所述的OLED阳极透明电极层的制造方法，其特征在于，所述形成第二光阻图案的程序包括：涂布第二光阻层于基板上，移除位于所述第二结构正上方的部分所述第二光阻层，以定义所述第二光阻图案；

所述形成第二透明导电层于所述第二结构的上表面的程序包括：形成一透明导电层于所述第二光阻图案与所述第二结构的上表面，移除所述第二光阻图案与位于所述第二光阻图案上表面的部分所述透明导电层。

4.如权利要求1所述的OLED阳极透明电极层的制造方法，其特征在于，所述形成第三光阻图案的程序包括：涂布第三光阻层于基板上，移除位于所述第三结构正上方的部分所述第三光阻层，以定义所述第三光阻图案；

所述形成第三透明导电层于所述第三结构的上表面的程序包括：形成一透明导电层于所述第三光阻图案与所述第三结构的上表面，移除所述第三光阻图案与位于所述第三光阻图案上表面的部分所述透明导电层。

5.如权利要求1所述的OLED阳极透明电极层的制造方法，其特征在于，所述第一透明导电层的厚度大于所述第二透明导电层的厚度，所述第二透明导电层的厚度大于所述第三透明导电层的厚度；所述各透明导电层的厚度为0.05μm～0.15μm。

6.如权利要求1所述的OLED阳极透明电极层的制造方法，其特征在于，所述第一结构与所述第一透明导电层位于红光区，所述第二结构与所述第二透明导电层位于绿光区，所述第三结构与所述第三透明导电层位于蓝光区。

7.如权利要求1所述的OLED阳极透明电极层的制造方法，其特征在于，所述第一结构、所述第二结构、所述第三结构皆由反射层与金属保护层依次堆叠构成，所述金属保护层位于所述透明导电层的底部。

8.如权利要求7所述的OLED阳极透明电极层的制造方法，其特征在于，所述第一结构、所述第二结构、所述第三结构与所述基板间更包括一保护层，所述保护层具有贯穿的过孔，所述过孔分别位于所述第一结构、所述第二结构和所述第三结构的正下方。

9.一种OLED显示装置的制造方法，其特征在于，所述制造方法包括：

提供一OLED基板，所述OLED基板上设置有OLED阳极透明电极层，所述OLED阳极透明电极层采用权利要求1至8中任一所述的制造方法制成；于所述OLED基板阳极上依序进行有机材料蒸镀、形成阴极薄膜、进行薄膜封装及盖板贴合。