[发明专利]一种自锐性的混合粒径聚集体磨料及制备方法有效
申请号: | 202010674243.9 | 申请日: | 2020-07-14 |
公开(公告)号: | CN111808572B | 公开(公告)日: | 2021-04-27 |
发明(设计)人: | 朱永伟;牛凤丽;丁聪;王子琨 | 申请(专利权)人: | 南京航空航天大学 |
主分类号: | C09K3/14 | 分类号: | C09K3/14 |
代理公司: | 南京天华专利代理有限责任公司 32218 | 代理人: | 瞿网兰 |
地址: | 210016 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 混合 粒径 聚集体 磨料 制备 方法 | ||
1.一种自锐性的混合粒径聚集体磨料,其特征在于聚集体磨料由较粗粒径磨粒、细/超细粒径磨粒、陶瓷或玻璃结合剂、脆性添加剂组成,其中较粗粒径磨粒的质量百分比为2%~70%,细/超细粒径磨粒的质量百分比为10%~90%,陶瓷或玻璃结合剂为4.5%~50%,脆性添加剂0.01%~2%,各组份之和为100%;所述的较粗粒径磨粒和细/超细粒径磨粒分别为金刚石、立方氮化硼中的其中一种或其组合;所述的较粗粒径磨粒为粒度分布在1μm~50μm之间的初始磨料;所述的细/超细粒径磨粒为粒度分布在10nm ~5μm之间的初始磨料;所述的脆性添加剂为硅、锗、或/和其合金;所述的混合粒径聚集体磨料的粒度分布在1μm~200μm之间。
2.根据权利要求1所述自锐性的混合粒径聚集体磨料,其特征在于,所述的较粗粒径磨粒为粒度分布在2μm~30μm之间的初始磨料。
3.根据权利要求1所述自锐性的混合粒径聚集体磨料,其特征在于所述的细/超细粒径磨粒为粒度分布在50nm~3μm之间的初始磨料。
4.根据权利要求1所述自锐性的混合粒径聚集体磨料,其特征在于所述的混合粒径聚集体磨料的粒度分布在5μm~150μm之间。
5.一种权利要求1所述的自锐性的混合粒径聚集体磨料,其特征在于它由以下步骤制备而成:
步骤一,将较粗粒径的磨料与细/超细粒径的磨料、陶瓷或玻璃结合剂、脆性添加剂按比例称料、混合;
步骤二,将混合均匀的料称量,制粒,并烘干;
步骤三,脱水、脱气,并进行烧结;
步骤四,筛分,得到所需尺度的混合粒径聚集体磨粒。
6.一种权利要求1-5任一项所述的自锐性的混合粒径聚集体磨料,其特征在于所述的混合粒径聚集体磨料用于精密磨削、珩磨、研磨、抛光加工中使用的树脂基砂轮、珩磨油石、丸片、固结磨料研磨垫、抛光垫、抛光块。
7.根据权利要求6所述自锐性的混合粒径聚集体磨料,其特征在于所述的混合粒径聚集体磨粒所制备的磨具用于石英玻璃、微晶玻璃、釉面瓷砖非金属材料和铝合金、钛合金金属材料的磨削、研磨与抛光加工。
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