[发明专利]一种离子液烷基化装置结垢清洗液及其使用方法

权利要求书

1.一种离子液烷基化装置结垢清洗液，其特征在于，所述清洗液包括以下重量百分比的组分：

酸洗缓蚀剂0.1％～2.5％、碱性物质0％～10％、表面活性剂0％～2％、助洗剂0％～5％、Fe³⁺还原剂0％～2.5％、Fe³⁺络合剂0％～2.5％以及去离子水75.5％～99.9％。

2.如权利要求1所述的离子液烷基化装置结垢清洗液，其特征在于：

所述酸洗缓蚀剂包括Lan826、Lan5、若丁、CM911或乌洛托品中的至少一种。

3.如权利要求1所述的离子液烷基化装置结垢清洗液，其特征在于：

所述碱性物质包括NaOH、KOH、NH₃、Ca(OH)₂或Na₃PO₄中的至少一种。

4.如权利要求1所述的离子液烷基化装置结垢清洗液，其特征在于：

所述表面活性剂包括阴离子活性剂、阳离子活性剂或非离子活性剂中的至少一种。

5.如权利要求1所述的离子液烷基化装置结垢清洗液，其特征在于：

所述助洗剂包括甲醇、乙醇、甲乙醚中的至少一种。

6.如权利要求1所述的离子液烷基化装置结垢清洗液，其特征在于：

所述Fe³⁺还原剂包括Na₂S₂O₃、Na₂SO₃、L-抗坏血酸以及L-抗坏血酸钠中的至少一种。

7.如权利要求1所述的离子液烷基化装置结垢清洗液，其特征在于：

所述Fe³⁺络合剂包括NTA、EDTA-2Na、DTPA、EDTMPS以及DETPMPS中的至少一种。

8.一种如权利要求1所述的离子液烷基化装置结垢清洗液的使用方法，所述方法基于至少两个依次连通的喷淋吸收塔，其特征在于，所述方法包括以下步骤：

利用所述离子液烷基化装置结垢清洗液清洗离子液烷基化装置，并收集清洗时产生的清洗废气；

将所述清洗废气通入第一个所述喷淋吸收塔；

检测所述喷淋吸收塔中经过中和吸收后的清洗废气中的HCl浓度；

当经过中和吸收后的清洗废气中的HCl浓度达标时，将所述经过中和吸收后的清洗废气排出；

当经过中和吸收后的清洗废气中的HCl浓度超标时，将所述经过中和吸收后的清洗废气通入下一个所述喷淋吸收塔进行中和吸收，直至经过中和吸收后的清洗废气中的HCl浓度达标。

9.一种如权利要求1所述的离子液烷基化装置结垢清洗液的使用方法，所述方法基于至少两个依次连通的气液混合装置，其特征在于，所述方法包括以下步骤：

利用所述离子液烷基化装置结垢清洗液清洗离子液烷基化装置，并收集清洗时产生的清洗废气；

将所述清洗废气通入第一个所述气液混合装置；

检测所述气液混合装置中经过中和吸收后的清洗废气中的HCl浓度；

当经过中和吸收后的清洗废气中的HCl浓度达标时，将所述经过中和吸收后的清洗废气排出；

当经过中和吸收后的清洗废气中的HCl浓度超标时，将所述经过中和吸收后的清洗废气通入下一个所述气液混合装置进行中和吸收，直至经过中和吸收后的清洗废气中的HCl浓度达标。