[发明专利]一种光源系统与投影系统在审

专利信息
申请号: 202010682983.7 申请日: 2020-07-15
公开(公告)号: CN113946090A 公开(公告)日: 2022-01-18
发明(设计)人: 郭祖强;杜鹏;瞿玉丽;李屹 申请(专利权)人: 深圳光峰科技股份有限公司
主分类号: G03B21/20 分类号: G03B21/20;G02B27/10
代理公司: 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 代理人: 唐双
地址: 518052 广东省深圳市南山区粤*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 光源 系统 投影
【权利要求书】:

1.一种光源系统,其特征在于,包括:

发光组件,用于产生激发光;

光引导元件,设置于所述发光组件发出的激发光的传输光路上,并与所述激发光的传输方向成一定角度,用于引导并控制所述激发光的传输方向;

收集透镜组件,设置于所述光引导元件的出射光路上,用于收集经所述光引导元件引导后出射的所述激发光,其中,所述收集透镜组件的中心线与经所述光引导元件引导后出射的所述激发光的传输方向之间具有预设倾斜角,以使得经所述光引导元件引导后出射的激发光从所述收集透镜组件的边缘入射;

波长转换装置,设置于所述收集透镜组件的出射光路上,用于接收所述激发光产生相应的受激光,并将所述受激光和未被激发的激发光共同反射至所述收集透镜组件;

其中,所述光引导元件包括反射区域以及分别位于所述反射区域相对两侧的透射区域,所述反射区域的面积大于所述发光组件发出的激发光在所述光引导元件上形成的光斑大小,用于反射所述激发光并透射所述受激光,所述透射区域用于透射所述激发光和所述受激光,所述受激光与未被激发的激发光合成白光。

2.根据权利要求1所述的光源系统,其特征在于,

所述光引导元件与水平方向之间的夹角为40°~50°。

3.根据权利要求1所述的光源系统,其特征在于,

所述透射区域的厚度小于或等于所述反射区域的厚度,所述反射区域用于反射第一光束并透射第二光束,所述透射区域设置有增透膜。

4.根据权利要求1所述的光源系统,其特征在于,

所述光引导元件具有斜切面,所述斜切面与所述收集透镜组件的中心线平行。

5.根据权利要求1所述的光源系统,其特征在于,

所述激发光为偏振光,所述反射区域设置有偏振膜,所述偏振膜用于透射S偏振光并反射P偏振光。

6.根据权利要求1所述的光源系统,其特征在于,

所述光源系统还包括第一匀光器件与第二匀光器件,所述第一匀光器件设置于所述收集透镜组件的出射光路上,用于对所述受激光与所述未被激发的激发光进行匀光处理;所述第二匀光器件设置于所述发光组件的出射光路上,用于对所述激发光进行匀光处理,并将匀光后的激发光射入所述光引导元件。

7.根据权利要求6所述的光源系统,其特征在于,

所述光源系统还包括第一中继透镜,所述第一中继透镜设置于所述收集透镜组件的出射光路上,用于接收所述收集透镜组件出射的所述受激光与所述未被激发的激发光,并进行汇聚后输入至所述第一匀光器件。

8.根据权利要求6所述的光源系统,其特征在于,所述光源系统还包括:

第一聚焦透镜,设置于所述发光组件的出射光路上,用于对所述激发光进行聚焦,并输入至所述第二匀光器件;

反射器件,设置于所述第二匀光器件的出射光路上,用于对所述第二匀光器件出射的匀光后的激发光进行反射;

第二中继透镜,设置于所述反射器件的出射光路上,用于对所述反射器件反射的激发光进行汇聚,并输入至所述光引导元件。

9.根据权利要求8所述的光源系统,其特征在于,

所述光源系统还包括第二聚焦透镜,所述第二聚焦透镜设置于所述第二中继透镜的出射光路上,用于将所述第二中继透镜出射的光进行聚焦,并输入至所述光引导元件。

10.根据权利要求1所述的光源系统,其特征在于,

所述收集透镜组件包括第一收集透镜与第二收集透镜,所述第一收集透镜设置于所述光引导元件的出射光路上,所述第二收集透镜设置于所述第一收集透镜的出射光路上。

11.根据权利要求10所述的光源系统,其特征在于,

所述第一收集透镜的尺寸大于所述第二收集透镜的尺寸,所述第一收集透镜与所述第二收集透镜为平凸透镜或凹凸透镜,所述第一收集透镜的中心线与所述第二收集透镜的中心线重合。

12.一种投影系统,其特征在于,包括光源系统与光机系统,所述光机系统用于产生光源光束,所述光机系统设置于所述光源的出射光路上,用于对所述光源光束进行处理,以形成投影光,其中,所述投影系统包括权利要求1-11中任一项所述的光源系统。

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