[发明专利]陶瓷材料表面微纳米形态辊的平面转印方法

权利要求书

1.陶瓷材料表面微纳米形态辊的平面转印方法，其特征在于，包括以下步骤：

（1）原料处理：

将陶瓷粉末经过硅烷化处理，将氧化铝粉经过二乙醇胺溶液进行浸渍处理，将纳米二氧化硅经过酸化处理；

（2）微米化处理：

将上述得到的陶瓷粉末、氧化铝粉进行微米化处理，分别得到10-15μm的陶瓷粉末和20-25μm的氧化铝粉；

（3）浆料制备：

将陶瓷粉末、氧化铝粉均匀分散到无水乙醇中，然后再添加辅助剂，继续搅拌后，再添加纳米二氧化硅，继续搅拌均匀后，得到浆料；

（4）制备母版：

选取完整的硅母版，在硅母版上通过光刻制造模具母版，再对模具母版

的表面进行镀膜处理；

（5）转印：

对母版在真空环境下进行高分子材料的转印处理，然后进行冷却固化后形成带有微纳米形态的模具；

（6）铸膜：

将浆体均匀的压制到上述模具表面上，然后在低温下放置保温20-30min，形成带有微纳米形态薄膜的模具，然后进行氧等离子轰击处理；

（7）检测：

将处理好的模具经过检测后，然后再运送至仓库进行包装储存。

2.根据权利要求1所述的陶瓷材料表面微纳米形态辊的平面转印方法，其特征在于：所述陶瓷粉末经过硅烷化处理为：

将陶瓷粉末添加到硅烷偶联剂溶液中，加热至50℃，保温处理30min，然后进行过滤，洗涤，烘干至恒重。

3.根据权利要求1所述的陶瓷材料表面微纳米形态辊的平面转印方法，其特征在于：所述浸渍处理为将氧化铝粉添加到二乙醇胺溶液中，加热至78℃，保温30min，然后再静置1小时，过滤，洗涤，烘干至恒重，即得；

所述二乙醇胺质量分数为10-12%。

4.根据权利要求1所述的陶瓷材料表面微纳米形态辊的平面转印方法，其特征在于：所述酸化处理为：

将纳米二氧化硅添加到硫酸溶液中，再在80℃下，浸泡1小时，然后过滤，洗涤至中性，烘干至恒重，即得；

所述硫酸溶液质量分数为1.5%。

5.根据权利要求1述的陶瓷材料表面微纳米形态辊的平面转印方法 ，其特征在于：所述陶瓷粉末、氧化铝粉、纳米二氧化硅粉、无水乙醇质量比为25-28:4-6:7-9：35。

6.根据权利要求1所述的陶瓷材料表面微纳米形态辊的平面转印方法，其特征在于：所述辅助剂为沸石粉；

所述沸石粉与陶瓷粉末质量比为1:10。

7.根据权利要求1所述的陶瓷材料表面微纳米形态辊的平面转印方法 ，其特征在于：所述高分子材料为聚氨酯丙烯酸酯。

8.根据权利要求1所述的陶瓷材料表面微纳米形态辊的平面转印方法 ，其特征在于：所述高分子材料为环氧树脂。

9.根据权利要求1所述的陶瓷材料表面微纳米形态辊的平面转印方法 ，其特征在于：所述真空环境中的真空度为0.05MPa。

10.根据权利要求1所述的陶瓷材料表面微纳米形态辊的平面转印方法 ，其特征在于：所述浆体均匀的压制的压力为5MPa。