[发明专利]微流控芯片及其制备方法和微流控装置及致病菌的检测方法

权利要求书

1.一种微流控装置，包括进样单元，以及多组与所述进样单元依次连通的微流控芯片和检测单元，多组的微流控芯片之间并联设置，多组的检测单元之间并联设置，所述微流控装置还设置与检测单元出口连通的废液收集单元，在微流控芯片的入口端分别设置试剂注入口，其中，所述微流控芯片包括芯片层，在所述芯片层内具有通道结构，在所述通道结构内具有表面修饰有适配体的阵列结构；所述修饰的方法包括将阵列结构依次进行等离子体氧化处理、硅烷偶联剂处理和交联改性处理，然后与末端氨基化修饰的适配体接触；其中所述阵列结构包含多个结构单元，结构单元水平截面总面积覆盖通道结构水平截面面积的30-50％，每个结构单元的形状为圆柱状。

2.根据权利要求1所述的微流控装置，其特征在于，所述阵列结构的材质选自聚二甲基硅氧烷、聚甲基苯烯酸甲酯和玻璃中的一种或多种。

3.根据权利要求1所述的微流控装置，其特征在于，所述微流控芯片还包括与芯片层键合的基底。

4.根据权利要求1所述的微流控装置，其特征在于，通道结构的高度与阵列结构的高度相同或不同。

5.根据权利要求1所述的微流控装置，其特征在于，垂直于流体流动方向上，相邻两个结构单元的距离为20-100μm。

6.根据权利要求1所述的微流控装置，其特征在于，垂直于流体流动方向上，相邻两个结构单元的距离为20-50μm。

7.根据权利要求1所述的微流控装置，其特征在于，每个结构单元的直径与高度的比例为1:1-10。

8.根据权利要求1所述的微流控装置，其特征在于，每个结构单元的直径与高度的比例为1:1-3。

9.根据权利要求1-8中任意一项所述的微流控装置，其特征在于，所述微流控芯片的制备方法，包括：

(1)形成具有通道结构的芯片层，其中所述通道结构内具有阵列结构；

(2)在所述阵列结构的表面修饰适配体；

所述修饰适配体的方法包括依次进行等离子体氧化处理、硅烷偶联剂处理和交联改性处理，然后与末端氨基化修饰的适配体接触。

10.根据权利要求9所述的微流控装置，其特征在于，所述等离子体氧化的条件包括：等离子体暴露30-60s。

11.根据权利要求9所述的微流控装置，其特征在于，所述硅烷偶联剂选自3-氨丙基三乙氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷和乙烯基三(β-甲氧乙氧基)硅烷中的一种或多种。

12.根据权利要求9所述的微流控装置，其特征在于，所述硅烷偶联剂处理的条件包括：采用偶联剂处理30-90min。

13.根据权利要求9所述的微流控装置，其特征在于，所述交联改性采用戊二醛和/或京尼平进行交联改性。

14.根据权利要求9所述的微流控装置，其特征在于，所述交联改性处理时间为30-90min。

15.根据权利要求1所述的微流控装置，其特征在于，所述微流控装置还包括覆盖在微流控芯片顶部的盖片。

16.一种采用权利要求1-15中任意一项所述的微流控装置进行致病菌检测的方法，包括：

(1)从进样单元通入的样品进入微流控芯片的通道结构，通道结构内的阵列结构表面的适配体捕获样品中的致病菌；

(2)对捕获的致病菌进行裂解，然后与试剂注入口通入的发光体系接触，通过检测单元进行检测。

17.根据权利要求16所述的方法，其特征在于，所述发光体系为荧光素酶发光体系。