[发明专利]石墨烯基电致红外发射加热装置

权利要求书

1.一种石墨烯基电致红外发射加热装置，其特征在于，包括：

壳体；

石墨烯基发射源，位于所述壳体围成的腔室内，所述石墨烯基发射源由基底和所述基底表面的石墨烯组成；及

双电极，连接于所述石墨烯基发射源的两端，以对所述石墨烯基发射源施加电压进行红外发射并发热。

2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述装置的红外发射波长为1μm～25μm。

3.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述电压为直流电压3V～24V或交流电压220V～380V，所述双电极之间的距离为1mm～2000mm。

4.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述发热后的温度达30℃～1000℃。

5.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述石墨烯为单层石墨烯或多层石墨烯，所述石墨烯层的厚度大于0.3nm，电阻率为10^-3Ω·cm～10³Ω·cm。

6.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述基底材料为工作温度大于200℃的耐高温材料，所述基底材料选自石英、金属、金属氧化物、陶瓷、氧化铝和碳材料中的一种或多种。

7.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述壳体材料为工作温度大于1000℃的耐高温玻璃或石英，所述壳体材料的透光率大于95％。

8.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述腔室内为真空环境。

9.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述腔室内充入惰性气体，真空度小于50Pa，所述惰性气体选自氮气、氩气和氦气中的一种或多种。

10.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述石墨烯采用真空溅镀、印刷、涂覆、氧化还原或化学气相沉积的方法形成于所述基底表面，所述石墨烯与所述基底之间的附着力等级达到5B。