[发明专利]一种微波等离子体设备用的基片台及设备

权利要求书

1.一种微波等离子体设备用的基片台，用于承载圆片或者方形薄片，其特征在于，所述基片台分成上下两个部分：上半部由单一金属材料或者相同合金材料加工而成，下半部为带水冷却的复合材料组成，其中，所述下半部的整体呈圆柱形，主体由金属制成，所述下半部从上往下依次有一个圆盘状导热材料，盘式冷却水管和金属支撑主体构成，在圆盘状导热材料，盘式冷却水管和金属支撑主体之间用一种低熔点合金金属填充，以保持冷却水管与基片台下半部有良好的导热接触，同时固定圆盘状导热材料。

2.根据权利要求1所述的基片台，其特征在于：所述上半部的上表面成圆形，由围绕圆周的金属圆环和中心部位的金属圆台组成，圆环与圆台之间有一个凹槽，凹槽的宽度在1.0-5.0毫米之间。

3.根据权利要求2所述的基片台，其特征在于：所述上半部的圆环的高度比圆台的高度高，圆环高度比圆台高度高2.0-4.0毫米之间。

4.根据权利要求2所述的基片台，其特征在于：所述上半部的下端面有一个圆形凹槽，用于与所述基片台的下半部接合。

5.根据权利要求1所述的基片台，其特征在于：所述下半部靠近其上端的外圆处有一个环形凹槽，凹槽里面填充有金属网状填充物。

6.根据权利要求5所述的基片台，其特征在于：当所述基片台的上半部、下半部安装接合后，上部的下缘与下部的金属网状填充物接触，能避免上部与下部接缝处产生微波放电。

7.一种制备金刚石单晶片的设备，其特征在于，包括如权利要求1-6任一项所述的基片台：还包括微波系统、真空系统、供气系统和等离子体反应室，其中，所述基片台设置在等离子体反应室中，工作过程中微波系统产生的微波能进入等离子体反应室，在基片台上方激发供气系统提供的气体产生等离子体球，其中，所述下半部的整体呈圆柱形，主体由金属制成，所述下半部从上往下依次有一个圆盘状导热材料，盘式冷却水管和金属支撑主体构成，在圆盘状导热材料，盘式冷却水管和金属支撑主体之间用一种低熔点合金金属填充，以保持冷却水管与基片台下半部有良好的导热接触，同时固定圆盘状导热材料。