[发明专利]彩膜基板及其制作方法、显示装置

权利要求书

1.一种彩膜基板，包括衬底基板、位于所述衬底基板上的黑矩阵和彩色滤光层、位于所述彩色滤光层远离所述衬底基板一侧的量子点层和位于所述黑矩阵远离所述衬底基板一侧的阻隔层，其特征在于，还包括第一无机层，所述第一无机层至少包括：

位于所述彩色滤光层与所述量子点层之间的第一部分；

位于所述量子点层与所述阻隔层之间的第二部分；

位于所述阻隔层远离所述衬底基板一侧的第三部分；

还包括第二无机层，所述第二无机层包括：

位于所述彩色滤光层靠近所述衬底基板的一侧的第四部分；

位于所述彩色滤光层与所述黑矩阵之间的第五部分；

位于所述黑矩阵与所述阻隔层之间的第六部分。

2.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，还包括多个柱状支撑体，多个所述柱状支撑体间隔位于所述阻隔层远离所述衬底基板的一侧。

3.根据权利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，所述柱状支撑体沿垂直所述衬底方向的截面为梯形，所述梯形的短边靠近所述阻隔层；

还包括金属反光层，所述金属反光层位于所述柱状支撑体的外表面，用于将从入光侧入射的光线反射至所述量子点层。

4.根据权利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，还包括第三无机层，所述第三无机层位于所述阻隔层与所述柱状支撑体之间，且覆盖所述量子点层，用于对所述量子点层进行保护。

5.根据权利要求4所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一无机层、所述第二无机层及所述第三无机层的厚度的取值范围均为100nm-1500nm，且所述第一无机层的厚度大于所述第二无机层的厚度，所述第二无机层的厚度大于所述第三无机层的厚度。

6.根据权利要求4或5所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一无机层、所述第二无机层及所述第三无机层的材料均包括氮化硅、二氧化硅、氮氧化硅及氧化铝中的一种或多种。

7.根据权利要求3所述的彩膜基板，其特征在于，还包括第四无机层，所述第四无机层位于所述柱状支撑体与所述金属反光层之间，用于对所述柱状支撑体进行保护。

8.根据权利要求3所述的彩膜基板，其特征在于，所述金属反光层的材料包括铝或银，所述金属反光层的厚度的取值范围为50nm-8000nm。

9.一种显示装置，包括对合在一起的显示背板和彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板为所述权利要求1-8任一项所述的彩膜基板。

10.一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括：

于衬底基板之上形成黑矩阵；

于所述衬底基板之上形成彩色滤光层，且所述彩色滤光层位于所述黑矩阵形成的间隙中；

于所述黑矩阵远离所述衬底基板的一侧形成阻隔层；

于所述彩色滤光层远离所述衬底基板的一侧形成第一无机层，且所述第一无机层完全覆盖所述阻隔层；

于所述第一无机层远离所述衬底基板的一侧形成量子点层，且所述量子点层位于所述阻隔层形成的间隙中，与所述彩色滤光层对应设置；

所述于所述衬底基板之上形成彩色滤光层之前，还包括：

于所述衬底基板之上形成第二无机层，且所述第二无机层完全覆盖所述黑矩阵；

所述于所述衬底基板之上形成彩色滤光层，包括：

于所述第二无机层远离所述衬底基板的一侧形成彩色滤光层。

11.根据权利要求10所述的制作方法，其特征在于，还包括：

于所述量子点层远离所述衬底基板的一侧形成第三无机层，且所述第三无机层覆盖所述第二无机层；

于所述第三无机层远离所述衬底基板的一侧形成多个间隔设置的柱状支撑体，所述柱状支撑体沿垂直所述衬底方向的截面为梯形，所述梯形的短边靠近所述阻隔层；

于所述柱状支撑体的外表面形成金属反光层，所述金属反光层用于将从入光侧入射的光线反射至所述量子点层。