[发明专利]一种利用蒙版技术对杂散光干扰模拟方法在审
| 申请号： | 202010687767.1 | 申请日： | 2020-07-16 |
| 公开（公告）号： | CN111899157A | 公开（公告）日： | 2020-11-06 |
| 发明（设计）人： | 王诚成;张龙杰;王彦;司维超 | 申请（专利权）人： | 中国人民解放军海军航空大学 |
| 主分类号： | G06T3/00 | 分类号： | G06T3/00 |
| 代理公司： | 烟台上禾知识产权代理事务所(普通合伙) 37234 | 代理人： | 丁宝君 |
| 地址： | 264000 山东省烟台*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 利用 技术 散光 干扰 模拟 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种利用蒙版技术对杂散光干扰模拟方法，其特征在于：为视景的视口添加一个带光晕纹理的RTT相机，预设一个出现光晕时φ角的范围[0,φu]，且有φu∈(0°,90°)；在RTT相机的着色器中，实时计算φ角的值；当φ∈[0,φu]时，渲染光晕素材。
2.根据权利要求1所述的利用蒙版技术对杂散光干扰模拟方法，其特征在于：采用如下公式A模拟光晕的灰度Ghalo和透明度χhalo：
上式中，k1和k2为比例系数，φ为太阳直射与视场边界的外夹角，Gm为光晕素材纹理的采样灰度值。
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