[发明专利]包含具有压缩应力AlGaAsP层的垂直共振腔表面放射激光二极管(VCSEL)有效

专利信息
申请号: 202010691407.9 申请日: 2020-07-17
公开(公告)号: CN112242642B 公开(公告)日: 2022-04-12
发明(设计)人: 黄朝兴;金宇中;戴文长 申请(专利权)人: 全新光电科技股份有限公司
主分类号: H01S5/183 分类号: H01S5/183;H01S5/028
代理公司: 北京市立康律师事务所 11805 代理人: 梁挥;孟超
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 包含 具有 压缩 应力 algaasp 垂直 共振 表面 放射 激光二极管 vcsel
【权利要求书】:

1.一种包含具有压缩应力AlGaAsP层的垂直共振腔表面放射激光二极管,其特征在于,该垂直共振腔表面放射激光二极管的结构由下而上包括一GaAs基板、一下DBR层、一下间隔层、一主动区、一上间隔层及一上DBR层;

该下DBR层与该下间隔层位于该基板之上且在该主动区之下,该下DBR层是包含多层低折射率层及多层高折射率层,由低折射率层及高折射率层交替堆叠而形成周期性结构(Periodic structures);

该上DBR层与该上间隔层位于该主动区之上,该上DBR层是包含多层低折射率层及多层高折射率层,由低折射率层及高折射率层交替堆叠而形成周期性结构(Periodicstructures);

其中,该上DBR层、或该下DBR层中的该低折射率层为AlxGa1-xAs1-yPy,0<x≦1,其中在室温下AlxGa1-xAs1-yPy的晶格常数大于该GaAs基板的晶格常数,该低折射率层的AlxGa1-xAs1-yPy中磷的含量范围约为0<y≦0.03,以降低该低折射率层的压缩应力;

该上DBR层或该下DBR层中的该高折射率层为GaAs、AlGaAs或AlxGa1-xAs1-yPy,该高折射率层为AlxGa1-xAs1-yPy时,在室温下AlxGa1-xAs1-yPy的晶格常数大于该GaAs基板的晶格常数,且该高折射率层的AlxGa1-xAs1-yPy中磷的含量范围约为0<y≦0.015,以避免该高折射率层在室温下产生拉伸应力。

2.如权利要求1所述的包含具有压缩应力AlGaAsP层的垂直共振腔表面放射激光二极管,其特征在于,该下DBR层为一N型DBR层时,该上DBR层至少包含一P型DBR层;该下DBR层的N型DBR层或该上DBR层的P型DBR层包含AlxGa1-xAs1-yPy

3.如权利要求1所述的包含具有压缩应力AlGaAsP层的垂直共振腔表面放射激光二极管,其特征在于,该下DBR层为一P型DBR层时,该上DBR层至少包含一N型DBR层;该下DBR层的P型DBR层或该上DBR层的N型DBR层包含AlxGa1-xAs1-yPy

4.如权利要求1所述的包含具有压缩应力AlGaAsP层的垂直共振腔表面放射激光二极管,其特征在于,该上DBR层或该下DBR层中的该些低折射率层分别包含AlxGa1-xAs1-yPy及/或该上DBR层或该下DBR层中的该些高折射率层分别包含AlxGa1-xAs1-yPy

5.如权利要求1所述的包含具有压缩应力AlGaAsP层的垂直共振腔表面放射激光二极管,其特征在于,包含有AlxGa1-xAs1-yPy的该些低折射率层中,其中,0.7≦x≦1。

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