[发明专利]一种高发射率复合涂层及其制备方法

权利要求书

1.一种高发射率复合涂层，其特征在于：所述复合涂层是由粘结层和陶瓷层组成的复合结构，粘结层直接喷涂在基体上，陶瓷层喷涂在粘结层上；

所述基体为合金材料；

所述粘结层材料为NiCrCoAlY，厚度为0.04mm～0.10mm；

所述陶瓷层材料的化学表达式为La_1-xA_xCr_1-yB_yO₃；A为Ca和Sr中的一种以上，B为Mg、Co和Mn中的一种以上，0.05≤x≤0.3，0.05≤y≤0.3，陶瓷层的厚度为0.04mm～0.3mm。

2.一种如权利要求1所述的高发射率复合涂层的制备方法，其特征在于：所述方法步骤如下：

(1)对清洁的基体待喷涂表面进行粗糙化处理；

(2)对待喷涂的基体进行预热处理；

(3)将粘结层材料NiCrCoAlY粉体装入送粉器中，采用大气等离子喷涂方法在基体待喷涂表面进行粘结层喷涂；

(4)将陶瓷层材料La_1-xA_xCr_1-yB_yO₃粉体装入送粉器中，采用大气等离子喷涂方法在已喷涂粘结层的基体上进行喷涂，得到一种钙钛矿型高发射率涂层。

3.根据权利要求2所述的一种高发射率复合涂层的制备方法，其特征在于：步骤(1)中：基体待喷涂表面粗糙度达到3μm～7μm。

4.根据权利要求2所述的一种高发射率复合涂层的制备方法，其特征在于：步骤(2)中：基体温度为100℃～200℃。

5.根据权利要求2所述的一种高发射率复合涂层的制备方法，其特征在于：步骤(3)中：粘结层材料NiCrCoAlY粉体的粒径为15μm～45μm；步骤(4)中：陶瓷层材料La_1-xA_xCr_1-yB_yO₃粉体的粒径为30μm～80μm。

6.根据权利要求2所述的一种高发射率复合涂层的制备方法，其特征在于：步骤(3)中：采用大气等离子喷涂方法喷涂粘结层，具体参数为：主气氩气流量为90SCFH～120SCFH，辅气氦气流量为8SCFH～12SCFH，载气氩气流量为8SCFH～12SCFH，电流为600A～750A，喷涂距离为70mm～100mm，送粉量为2RPM～4RPM。

7.根据权利要求2所述的一种高发射率复合涂层的制备方法，其特征在于：步骤(4)中：采用大气等离子喷涂方法喷涂陶瓷层，具体参数为：主气氩气流量为75SCFH～100SCFH，辅气氦气流量为30SCFH～40SCFH，载气氩气流量为6SCFH～10SCFH，电流为750A～850A，喷涂距离为75mm～100mm，送粉量为3RPM～5RPM。

8.根据权利要求2所述的一种高发射率复合涂层的制备方法，其特征在于：步骤(3)和(4)中：喷涂时，喷枪的喷涂角度为80°～90°。

9.根据权利要求2所述的一种高发射率复合涂层的制备方法，其特征在于：步骤(3)中：采用大气等离子喷涂方法喷涂粘结层，具体参数为：主气氩气流量为90SCFH～120SCFH，辅气氦气流量为8SCFH～12SCFH，载气氩气流量为8SCFH～12SCFH，电流为600A～750A，喷涂距离为70mm～100mm，送粉量为2RPM～4RPM；

步骤(4)中：采用大气等离子喷涂方法喷涂陶瓷层，具体参数为：主气氩气流量为75SCFH～100SCFH，辅气氦气流量为30SCFH～40SCFH，载气氩气流量为6SCFH～10SCFH，电流为750A～850A，喷涂距离为75mm～100mm，送粉量为3RPM～5RPM。

10.根据权利要求2所述的一种高发射率复合涂层的制备方法，其特征在于：步骤(1)中：基体待喷涂表面粗糙度达到3μm～7μm；

步骤(2)中：基体温度为100℃～200℃；

步骤(3)中：粘结层材料NiCrCoAlY粉体的粒径为15μm～45μm；采用大气等离子喷涂方法喷涂粘结层，具体参数为：主气氩气流量为90SCFH～120SCFH，辅气氦气流量为8SCFH～12SCFH，载气氩气流量为8SCFH～12SCFH，电流为600A～750A，喷涂距离为70mm～100mm，送粉量为2RPM～4RPM；喷涂时，喷枪的喷涂角度为80°～90°；

步骤(4)中：陶瓷层材料La_1-xA_xCr_1-yB_yO₃粉体的粒径为30μm～80μm；采用大气等离子喷涂方法喷涂陶瓷层，具体参数为：主气氩气流量为75SCFH～100SCFH，辅气氦气流量为30SCFH～40SCFH，载气氩气流量为6SCFH～10SCFH，电流为750A～850A，喷涂距离为75mm～100mm，送粉量为3RPM～5RPM；喷涂时，喷枪的喷涂角度为80°～90°。