[发明专利]基于ScAlN与InAlN极化插入层增强电场的N极性InGaN基太阳能电池有效

专利信息
申请号: 202010697623.4 申请日: 2020-07-20
公开(公告)号: CN111785794B 公开(公告)日: 2023-09-08
发明(设计)人: 许晟瑞;高源;吴浩洋;张雅超;陈大正;李培咸;张进成;郝跃 申请(专利权)人: 西安电子科技大学
主分类号: H01L31/0304 分类号: H01L31/0304;H01L31/0352;H01L31/0735;H01L31/18
代理公司: 陕西电子工业专利中心 61205 代理人: 王品华
地址: 710071*** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 基于 scaln inaln 极化 插入 增强 电场 极性 ingan 太阳能电池
【权利要求书】:

1.一种基于ScAlN与InAlN极化插入层增强电场的N极性InGaN基太阳能电池,自下而上包括衬底(1)、高温AlN成核层(2)、i-GaN 层(3)、n型InyGa1-yN层(5)、InzGa1-zN/GaN多量子阱层(6)和p型GaN层(7),n型InyGa1-yN层左右两端和p型GaN层上沉积有电极(9),其特征在于:

在i-GaN 层(3)与n型InyGa1-yN层(5)之间插入有InxAl1-xN层(4),在p型GaN层(7)上增设有ScuAl1-uN层(8),以通过在InxAl1-xN层(4)与n型InyGa1-yN层(5)之间的极化矢量差值,和p型GaN层(7)与ScuAl1-uN层(8)之间的极化矢量差值,产生强极化电场,并实现InxAl1-xN层(4)分别与i-GaN 层(3)和n型InyGa1-yN层(5)的晶格匹配;

所述InxAl1-xN层(4)的In组分x为0.21-0.24,厚度为10-30nm,所述ScuAl1-uN层(8)的Sc的组分u为0.2-0.4,且该两层(4,8)均采用N极性氮化物材料,即材料的最表层中心原子为N原子,在N极性下,极化电场与内建电场的方向相同,以增强载流子的漂移能力,提高太阳能电池的效率;

高温AlN成核层(2)采用厚度为20-30 nm的N极性AlN材料;i-GaN层(3)采用厚度为2-3mm的N极性GaN材料; n型InyGa1-yN层(5)采用厚度为1-2 mm的N极性InGaN材料,In的组分为0.02-0.06;InzGa1-zN/GaN多量子阱层(6),其中每个InzGa1-zN层的厚度为3-5nm,每个GaN层的厚度为5-10nm,In 含量x 的调整范围为0.15-0.3,其采用的是N极性的InGaN材料和GaN材料;p型GaN层(7)采用厚度为100-200nm的N极性GaN材料。

2.根据权利要求1所述的电池,其特征在于:衬底(1)采用了SiC或GaN或蓝宝石。

3.根据权利要求1所述的电池,其特征在于:所述InzGa1-zN/GaN多量子阱层(6)的周期数为10-30个周期,即InzGa1-zN层和GaN层交替生长。

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