[发明专利]一种便于对齐的扫描式大面阵的微透镜阵列结构

权利要求书

1.一种便于对齐的扫描式大面阵的微透镜阵列结构，其特征在于，包括第一保护工装、第二保护工装、第一微透镜阵列、第二微透镜阵列、二维微位移台和校正工装；

所述第一保护工装和第二保护工装分别与第一微透镜阵列和微透镜阵列进行粘合，保护两片微透镜阵列；

所述第一微透镜阵列与第一保护工装粘合后安装于二维微位移台上，二维微位移台用于第一驱动微透镜阵列，实现微米量级的上下左右移动，从而实现扫描；

所述校正工装用于调整第二微透镜阵列相对位置，其固定在二维微位移台上，用于实现两片微透镜阵列的高精度对齐；

其中，所述校正工装通过第一螺丝固定在二维微位移台上，其包括方形框架，在方形框架的四个边的中部下端分别安装一个承托块，承托块部分伸入方形框架内侧，方形框架的其中两个相邻的边上内侧均安装有横向的多个第二弹簧柱塞，在其他两个边上，均安装有横向的、贯穿方形框架且螺纹连接的第二螺丝；

第二保护工装、第二微透镜阵列与校正工装配合使用，第二保护工装放在校正工装的方形框架内，且放置在承托块上，第二弹簧柱塞和第二螺丝均顶在第二保护工装的相应的边上，通过第二螺丝调节第二保护工装的位置，进而调节第二微透镜阵列的位置；

所述校正工装的每个承托块均分别通过一个第一螺丝与二维微位移台螺纹连接，且每个承托块下方的二维微位移台上均分别设置有两个第一弹簧柱塞，通过调节第一螺丝实现第二微透镜阵列与第一微透镜阵列的高度调节且高精度对齐。

2.根据权利要求1所述的一种便于对齐的扫描式大面阵的微透镜阵列结构，其特征在于，所述第一保护工装包括一个具有一定厚度的正方形框，且其四角分别设计有倒角，便于微透镜阵列的安装和胶的粘合。

3.根据权利要求1所述的一种便于对齐的扫描式大面阵的微透镜阵列结构，其特征在于，所述第二保护工装包括一个具有一定厚度的正方形框，且其四角分别设计有倒角，便于微透镜阵列的安装和胶的粘合。

4.根据权利要求1所述的一种便于对齐的扫描式大面阵的微透镜阵列结构，其特征在于，在两片微透镜阵列之间安装高精度垫片，用于精确控制第一微透镜阵列与第二微透镜阵列之间的距离。