[发明专利]滑板的使用中表现的分析系统

权利要求书

1.滑板(25)的使用中表现的分析系统(200)，包括：

数据库(202)，其存储基准表现；

传感器(100)，其对所述滑板(25)的变形敏感；和

监测体(204)，其包括：

用于基于来自所述传感器(100)的测量值确定所述滑板(25)的使用中表现的装置；和

用于比较所述使用中表现和所述基准表现的装置；

其特征在于，所述传感器(100)固定至所述滑板(25)，并且所述传感器(100)包括：

至少一个压电元件(11a-11b)，其固定至所述滑板(25)，并且配置为在所述滑板(25)的变形期间生成电能；和

电子处理电路(15)，其仅由所述至少一个压电元件(11a-11b)生成的所述电能供电，配置为估计所述滑板(25)的变形阶段的持续时间(T)，并且估计在所述滑板(25)的变形期间耗散的机械能的图像(M)；

所述使用中表现包括：与所述滑板(25)的变形阶段的所述持续时间(T)相对应的应力时间(Ts)，以及与所述图像(M)和变形阶段的所述持续时间(T)之间的关系相对应的平均应力功率(Ps)的图像；

所述基准表现由类似于固定至所述滑板(25)的所述传感器(100)的传感器确定，以获得基准应力时间(Tref)和基准应力平均值(Pref)。

2.根据权利要求1所述的分析系统，其中，所述使用中表现包括由位置传感器(207)测量的速度(Vs)；该测量的速度(Vs)与基准速度(Vref)相比较。

3.根据权利要求1或2所述的分析系统，其中，所述使用中表现包括由陀螺仪(208)检测的做出转弯的次数(Ns)；该做出转弯的次数(Ns)与基准做出转弯的次数(Nref)相比较。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的分析系统，其中，用于确定所述使用中表现的装置配置为基于所述使用中表现(Ts、Ps、Vs、Ns)并且基于与所述滑板(25)的抗弯刚度相关的变量(αm)来确定校正的使用中表现(Tsc、Psc、Vsc、Nsc)；所述用于比较的装置是根据所述校正的使用中表现(Tsc、Psc、Vsc、Nsc)来进行的。

5.根据权利要求4所述的分析系统，其中，与所述滑板(25)的抗弯刚度相关的所述变量(αm)是从所述滑板(25)的型号，以及从存储滑板的不同型号和相应的抗弯刚度系数的数据库(220)获得的。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的分析系统，其中，用于确定所述使用中表现的装置配置为基于所述使用中表现(Ts、Ps、Vs、Ns)并且基于与上方有所述滑板(25)正在前进的雪的类型相关的变量(αm)来确定校正的使用中表现(Tsc、Psc、Vsc、Nsc)；所述用于比较的装置是根据所述校正的使用中表现(Tsc、Psc、Vsc、Nsc)来进行的。

7.根据权利要求6所述的分析系统，其中，从温度传感器(209)获得与上方有所述滑板(25)正在前进的雪的类型相关的所述变量(αn)。

8.根据权利要求6所述的分析系统，其中，从位置传感器(207)和存储与不同位置相关的天气信息的数据库(222)获得与上方有所述滑板(25)正在前进的雪的类型相关的所述变量(αn)。

9.根据权利要求1至8中的任一项所述的分析系统，其中，其中所述监测体(204)配置为当所述应力时间(Ts)小于基准应力时间(Tref)并且当所述平均应力功率(Ps)大于基准平均应力功率(Pref)时，授权进入高级别路线。

10.根据权利要求2、3和9中任一项所述的分析系统，其中所述监测体(204)配置为当所述速度(Vs)大于所述基准速度(Vref)并且当所述做出转弯的次数(Ns)大于所述基准做出转弯的次数(Nref)时，授权进入高级别路线。