[发明专利]一种真空吸附底座

权利要求书

1.一种真空吸附底座，包括放置在底座(1)上的待加工工件(17)，其特征在于，所述底座(1)上开设有多个通孔(14)，多个所述通孔(14)之间通过表面连通槽(18)相连通，所述底座(1)内开设有空腔，所述空腔内壁固定连接有主管(3)，所述主管(3)内对称滑动连接有第一活塞块(4)，所述主管(3)通过连通管(13)固定连通有分流管(10)，所述分流管(10)横竖交错设置，所述分流管(10)上等间距固定连通有多个竖管(11)，每个所述竖管(11)内滑动连接有第二活塞块(12)，所述第二活塞块(12)上设有封堵机构，所述封堵机构包括顶杆(8)与密封塞(9)，所述顶杆(8)固定连接在第二活塞块(12)上，所述密封塞(9)固定穿插在顶杆(8)上，所述主管(3)、分流管(10)、竖管(11)内均注有流体；

所述真空吸附底座包括平衡箱(2)，所述平衡箱(2)固定连接在空腔底壁，所述平衡箱(2)与主管(3)相连通，所述平衡箱(2)的底侧分别固定连通有泄压管(5)和平衡管(6)，所述平衡管(6)上设有单向阀(7)，所述泄压管(5)上设有调节阀；

在进行真空吸附时，直接将待加工工件(17)放置在底座(1)上，与待加工工件(17)地面接触的顶杆(8)向下移动，此时待加工工件(17)底面的通孔(14)处于打开状态，而其他敞漏的通孔(14)处于闭合状态，当空腔内空气通过真空抽气管(16)快速排出时，平衡箱(2)内空气为了平衡空腔内气压，推动两个第一活塞块(4)相背滑动，使得每个竖管(11)内的流体上升，从而让密封塞(9)抵紧通孔(14)保证密封效果，此时气流只能延着表面连通槽(18)进入空腔内。

2.根据权利要求1所述的一种真空吸附底座，其特征在于，多个所述通孔(14)呈矩形阵列分布，所述顶杆(8)与通孔(14)一一对应设置，所述顶杆(8)底端至顶端直径逐渐减小。

3.根据权利要求1所述的一种真空吸附底座，其特征在于，所述底座(1)两侧对称固定连通有真空抽气管(16)，所述真空抽气管(16)上设有控制阀(15)。

4.根据权利要求1所述的一种真空吸附底座，其特征在于，所述密封塞(9)的直径大于通孔(14)孔径。