[发明专利]一种CVD炉快速降温的装置及方法在审
申请号: | 202010704497.0 | 申请日: | 2020-07-21 |
公开(公告)号: | CN111981857A | 公开(公告)日: | 2020-11-24 |
发明(设计)人: | 刘汝强;王殿春;李晓明;吴思华;周清波 | 申请(专利权)人: | 山东国晶新材料有限公司 |
主分类号: | F27D9/00 | 分类号: | F27D9/00;F27D19/00 |
代理公司: | 济南金迪知识产权代理有限公司 37219 | 代理人: | 颜洪岭 |
地址: | 251200 山*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 cvd 快速 降温 装置 方法 | ||
1.一种CVD炉快速降温的装置,其特征在于,包括液氮罐、流量控制器、阀门、压力传感器、温度传感器和PLC控制器;液氮罐通过输入管依次连接流量控制器、阀门及CVD炉炉壳夹层的输入口,压力传感器设置在CVD炉炉壳夹层的安装口上,温度传感器设置在CVD炉炉壳夹层的顶部,压力传感器、温度传感器和流量控制器分别与PLC控制器连接。
2.如权利要求1所述的CVD炉快速降温的装置,其特征在于,所述装置还包括存储罐,CVD炉炉壳夹层的输出口通过管道与存储罐连接。
3.如权利要求1所述的CVD炉快速降温的装置,其特征在于,所述阀门选用电动球阀,电动球阀与PLC控制器连接。
4.如权利要求1所述的CVD炉快速降温的装置,其特征在于,所述CVD炉炉壳夹层的输入口位于CVD炉一侧的下端,CVD炉炉壳夹层的输出口位于CVD炉另一侧的上端。
5.一种CVD炉快速降温的方法,利用权利要求1-4任一项所述的CVD炉快速降温的装置,其特征在于,所述方法包括以下步骤:
(1)设置压力传感器监测压力值为2~10MPa,设置流量控制器流量为2~20L/min;
(2)打开液氮罐和电动球阀,使液氮从CVD炉下端输入口进入到CVD炉炉壳夹层内;
(3)液氮在CVD炉炉壳夹层内由下向上进行热交换,液氮被气化后从CVD炉上端的输出口进入存储罐;
(4)降温过程中,压力传感器实时对CVD炉壳夹层内液氮压力进行监测;
(5)压力传感器将监测压力值传送到PLC控制器,PLC控制器根据压力值调节流量控制器的液氮流量,使CVD炉炉壳夹层内液氮压力维持在设定值;
(6)当温度传感器监测到CVD炉炉壳夹层内的温度达到了设定温度以下,温度传感器将监测温度值传送到PLC控制器,PLC控制器控制电动球阀关闭,结束降温作业。
6.如权利要求5所述的CVD炉快速降温的方法,其特征在于,步骤(1)中,设置流量控制器流量为10L/min。
7.如权利要求5所述的CVD炉快速降温的方法,其特征在于,步骤(1)中,设置压力传感器监测压力值为5MPa。
8.如权利要求5所述的CVD炉快速降温的方法,其特征在于,步骤(6)中,温度传感器的设定温度为不超过100℃。
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