[发明专利]一种抛光装置及化学机械平坦化设备有效
| 申请号： | 202010706186.8 | 申请日： | 2020-07-21 |
| 公开（公告）号： | CN111958479B | 公开（公告）日： | 2022-06-28 |
| 发明（设计）人： | 崔凯;李婷;蒋锡兵;岳爽;徐俊成;尹影 | 申请（专利权）人： | 北京烁科精微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/10 | 分类号： | B24B37/10;B24B37/32;B24B57/02 |
| 代理公司： | 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 | 代理人： | 于妙卓 |
| 地址： | 100176 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 抛光 装置 化学 机械 平坦 设备 | ||
【权利要求书】：
1.一种抛光装置，其特征在于，包括：主体(3)和设于所述主体(3)外部的保护罩(4)，输液组件位于所述保护罩(4)的壁中，所述输液组件具有至少一个出液口(6)，从所述出液口(6)喷出的液体均匀地分布在抛光垫(1)的接触区域上；
所述输液组件为沿所述保护罩(4)的轴向螺旋设置的输液通道(5)。
2.根据权利要求1所述的抛光装置，其特征在于，所述输液通道(5)靠近所述抛光垫(1)的一端朝向所述主体(3)的轴心弯折。
3.根据权利要求1或2所述的抛光装置，其特征在于，所述主体(3)包括主轴(31)和旋转组件(32)、以及设于所述旋转组件(32)底部的保持环(33)，输液通道(5)贯穿所述旋转组件(32)和保持环(33)。
4.根据权利要求3所述的抛光装置，其特征在于，至少一个所述出液口(6)为多个，沿所述保持环(33)的轴向间隔设置。
5.根据权利要求4所述的抛光装置，其特征在于，多个所述出液口(6)在所述保持环(33)上的投影沿所述保持环(33)的轴心倾斜设置。
6.根据权利要求5所述的抛光装置，其特征在于，所述出液口(6)在所述保持环(33)上的投影靠近保持环(33)的内环，未连通所述保持环(33)的内环与外环。
7.一种化学机械平坦化设备，其特征在于，包括权利要求1-6中任一项所述的抛光装置。
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