[发明专利]一种考虑悬垂特征约束的保外形拓扑优化方法有效

专利信息
申请号: 202010708379.7 申请日: 2020-07-21
公开(公告)号: CN111859671B 公开(公告)日: 2021-06-22
发明(设计)人: 刘婷婷;王新禹;廖文和;张长东;王聪 申请(专利权)人: 南京理工大学
主分类号: G06F30/20 分类号: G06F30/20;G06F30/10;G06F113/10
代理公司: 南京钟山专利代理有限公司 32252 代理人: 戴朝荣
地址: 210094 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 考虑 悬垂 特征 约束 外形 拓扑 优化 方法
【权利要求书】:

1.一种考虑悬垂特征约束的保外形拓扑优化方法,其特征在于,包括以下步骤:

S1、将结构模型进行体素化网格划分,每个体素单元都有其对应的空间坐标;

S2、以体素单元集合为基准,构建能够约束结构模型外表面的保形单元,每个保形单元包括结构模型的外表面单元、内部单元与内表面单元;

S3、定义控制保形单元的两种变化方式:保形单元增加操作、保形单元减小操作;

S4、定义保形单元悬垂函数,计算每个保形单元的悬垂函数值P,并将保形单元按悬垂函数值从小到大排序;悬垂函数如下式:

p=1 (βo≥β)

式中,q为自定义系数,βo为悬垂结构角度,h为悬垂结构水平方向距离,p是保形单元的悬垂函数值;

S5、设定最小自支撑角度β;求取保形单元虚增加角度βao、保形单元虚减小角度βdo;设定悬垂角度约束,使在迭代过程中不会产生新的悬垂角度βo小于最小支撑角β的结构;

S6、设定迭代变化率l,确定迭代变化数S,依据迭代变化数对步骤S4得出的排序队列应用步骤S3的保形单元变化方法,对保形单元执行增加或减少操作;在当前步骤施加步骤S5中设定的悬垂角度约束,不对被约束的保形单元执行增加操作与减小操作;

S7、对全部保形单元虚增加、虚减小角度约束重置,并在下次迭代中重新判定;

S8、迭代循环步骤S4至步骤S7,直到结构内表面全部悬垂结构角度βo≥β时,迭代终止。

2.如权利要求1所述的保外形拓扑优化方法,其特征在于,在步骤S2中,构建的保形单元能够约束结构模型外表面的六个方向,六个方向分别为沿x、y、z轴的正、负向。

3.如权利要求1所述的保外形拓扑优化方法,其特征在于:步骤S3中保形单元增加操作为:在保形单元的内表面一侧,由结构模型外表面至内表面方向增加一个体素单元;保形单元减小操作为:在保形单元的内表面一侧,由结构模型内表面至外表面方向删减一个体素单元。

4.如权利要求1所述的保外形拓扑优化方法,其特征在于,在x、z平面中,悬垂结构角度βo求取方式如下:

1)在保形单元内表面单元体,坐标为(x,z)处做半径为q的悬垂滤波圈;

2)遍历滤波圈内体素单元,找到距离圆心单元体坐标为(x,z),Z轴负方向距离最大的内表面单元体,坐标为(r,t);

3)依式(2)求得悬垂角度βo,式(2)如下,x、z、r、t为体素单元坐标。

5.如权利要求1所述的保外形拓扑优化方法,其特征在于,在x、z平面中,水平方向距离h求取方式如下:

1)求取全部保形单元所处悬垂结构的悬垂角度βo后,将βo≥β的保形单元标记为自支撑单元;

2)以保形单元内表面单元体,坐标为(x,z)为起点沿Z轴负方向遍历直到z=0,每遍历到新的一行时,向X轴悬垂方向遍历;当遍历到第一个自支撑单元体时取自支撑单元体,坐标记为(a,c),结束遍历;若未遍历到自支撑单元体则取x方向距中心单元体最远的单元体,坐标记为(a,c);

3)依式(3)求取水平方向距离h,式(3)如下,dx为每个体素单元棱长,x、a为体素单元坐标;

h=|x-a|×dx。

6.如权利要求1所述的保外形拓扑优化方法,其特征在于,步骤S5中,设定的悬垂角度约束为:当βao小于最小支撑角度β时,在当前迭代步,不对此保形单元执行增加操作;当βdo小于最小支撑角度β时,在当前迭代步,不对此保形单元执行减小操作。

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