[发明专利]一种低温激光干涉测量光学系统的热噪声抑制系统

权利要求书

1.一种低温激光干涉测量光学系统的热噪声抑制系统，其特征在于，包括反应气体气源（1）、稀有气体气源（2）、第一质量流量计（3）、第二质量流量计（4）、标准工作气体装置（5）和射频等离子体发生器（6），所述射频等离子体发生器（6）的射频频率为13.56MHz；

所述反应气体气源（1）通过所述第一质量流量计（3）与所述标准工作气体装置（5）的进气端连接，所述稀有气体气源（2）通过所述第二质量流量计（4）与所述标准工作气体装置（5）的进气端连接；

所述第一质量流量计（3）和所述第二质量流量计（4）的质量流量比为1: 2，所述第一质量流量计（3）输出的反应气体和所述第二质量流量计（4）输出的稀有气体在所述标准工作气体装置（5）内充分混合后得到标准工作气体，所述标准工作气体装置（5）将所述标准工作气体通入所述射频等离子体发生器（6）；所述反应气体为氢气、氧气或者氮气中的任意一种，所述稀有气体为氦气、氖气或者氩气中的任意一种；

所述射频等离子体发生器（6）通过射频放电产生混合物等离子体，所述混合物等离子体包括激发态稀有元素粒子、反应气体粒子及其合成粒子，并将所述混合物等离子体通入待处理光学构件（7）所在的真空腔（8），使所述待处理光学构件（7）沉浸在所述混合物等离子体氛围中，且抽真空装置（9）保持所述真空腔（8）的真空度始终高于预设真空度阈值，所述预设真空度阈值为10^-5mbar～10^-3mbar，所述混合物等离子体与所述待处理光学构件（7）的表面相互作用，完成对所述待处理光学构件（7）的热噪声处理；

热噪声抑制方法包括以下步骤：

步骤一：保持所述待处理光学构件（7）所处环境的真空度始终高于预设真空度阈值；

步骤二：开启所述反应气体气源（1）和所述稀有气体气源（2）；

步骤三：设置所述第一质量流量计（3）和所述第二质量流量计（4）的质量流量比为1:2；

步骤四：所述标准工作气体装置（5）将所述标准工作气体通入所述射频等离子体发生器（6）；

步骤五：启动所述射频等离子体发生器（6），并将所述射频等离子体发生器（6）的射频频率调节至13.56MHz；

步骤六：经过预设处理时长之后，关闭所述射频等离子体发生器（6）及所述反应气体气源（1）、所述稀有气体气源（2）；

步骤七：所述抽真空装置（9）将所述真空腔（8）内的反应产物及恢复到基态的气体物质抽出。

2.根据权利要求1所述的低温激光干涉测量光学系统的热噪声抑制系统，其特征在于，

所述第一质量流量计（3）的质量流量设置为5sccm，所述第二质量流量计（4）的质量流量设置为10sccm。

3.根据权利要求1所述的低温激光干涉测量光学系统的热噪声抑制系统，其特征在于，

所述待处理光学构件（7）为超低温引力波探测器中的硅悬线及硅反射镜。