[发明专利]一种低水接触角高折射率硬化液及其制备ITO导电膜的方法

说明书

本发明提供了一种低水接触角高折射率硬化液及其制备ITO导电膜的方法，其低水接触角高折射率硬化液包括高耐磨高硬度树脂、高折射率填料、分散剂、光引发剂、有机溶剂和可重涂流平剂；其低水接触角高折射率硬化液制备ITO导电膜的方法，包括以下步骤：步骤S001，选取合适的基材；步骤S002，制备低水接触角高折射率硬化液；步骤S003，涂布低水接触角高折射率层；将低水接触角高折射率硬化液涂布在基材上，并经UV固化后形成低水接触角高折射率层；步骤S004，溅射ITO导电层；在低水接触角高折射率层上溅射ITO导电层形成ITO导电膜；本发明提供了低水接触角高折射率硬化液及其制备ITO导电膜的方法，克服了现有ITO导电膜制备效果差以及制备工艺繁琐的缺陷。

技术领域

本发明涉及导电薄膜领域，特别是涉及一种低水接触角高折射率硬化液及其制备ITO导电膜的方法。

背景技术

随着触控式显示设备的兴起，对透明导电膜的需求日益增长。透明导电膜主要有三种技术路线，分别为ITO导电膜、纳米银导电膜和metal mesh；其中ITO导电膜因其电阻稳定和价格优势，已经广泛应用在市场中。ITO导电膜是指采用磁控溅射的方法，在透明有机薄膜材料上溅射透明氧化铟锡(ITO)导电薄膜镀层并经高温退火处理得到的高技术产品。ITO膜层的厚度不同，膜的导电性能和透光性能也不同。一般来说，在相同的工艺条件和性能相同的PET基底材料的情况下，ITO膜层越厚，PET-ITO膜的表面电阻越小，光透过率也相应的越小。

普通硬化膜制作的ITO导电膜，有明显的蚀刻纹路，影响显示效果，制备效果差；通过在基膜上面设置高折射率硬化涂层可减轻蚀刻纹路，但一般的高折射率硬化涂层因填料与涂料的相容性限制，折射率极限值低，且达因值较低，与ITO附着力不佳，影响正常使用；并且现有ITO导电膜制备工艺复杂，制备过程繁琐，不适合大批量生产；因此，需要进行改进。

发明内容

（一）要解决的技术问题

本发明所要解决的问题是提供一种低水接触角高折射率硬化液及其制备ITO导电膜的方法，以克服现有ITO导电膜制备效果差以及制备工艺繁琐的缺陷。

（二）技术方案

为解决所述技术问题，本发明提供一种低水接触角高折射率硬化液，所述低水接触角高折射率硬化液包括高耐磨高硬度树脂、高折射率填料、分散剂、光引发剂、有机溶剂和可重涂流平剂。本低水接触角高折射率硬化液，具有低水接触角和高折射率的特点，通过添加高折射率填料可以进一步提升折射率，通过添加可重涂流平剂可以达到低水接触角高达因值的效果，提升与ITO的附着力，采用在该低水接触角高折射率硬化液固化后形成的硬化层上溅射ITO导电膜，可有效去除ITO导电膜上的蚀刻纹路，并有效提高基膜与ITO导电膜的附着力，制备效果好。

进一步的，在所述低水接触角高折射率硬化液中，所述高耐磨高硬度树脂为10~50重量份，优选为10~30重量份；所述高折射率填料为10~70重量份，优选为20~50重量份；所述分散剂为1~7重量份，优选为2~5重量份；所述光引发剂为0.5~2.5重量份，优选为0.5~1.5重量份；所述有机溶剂为30~80重量份，优选为60~80重量份；所述可重涂流平剂为0.1~1重量份，优选为0.1~0.3重量份。

进一步的，所述高折射率填料为金属氧化物颗粒或金属丙烯酸化合物，所述金属氧化物颗粒包括氧化锆、氧化锌、氧化钛、氧化铝中的一种或几种组合，所述金属氧化物颗粒的表面有接枝含双键官能团，所述官能团包括丙烯酸酯键和碳碳双键，所述金属氧化物颗粒粒径为15-500nm，优选为15-100nm；所述金属丙烯酸化合物包括丙烯酸锆或丙烯酸铪。