[发明专利]一种光掩模及其制作方法

权利要求书

1.一种光掩模，其特征在于，包括主图形和至少一个散射条图形；

所述散射条图形包括多个间隔设置的子散射条图形，所述多个子散射条图形依次排列在所述主图形的一侧。

2.根据权利要求1所述的光掩膜，其特征在于，所述至少一个散射条图形包括第一散射条图形和第二散射条图形；

所述第一散射条图形包括多个间隔设置的第一子散射条图形，所述多个第一子散射条图形依次排列在所述主图形的第一侧；

所述第二散射条图形包括多个间隔设置的第二子散射条图形，所述多个第二子散射条图形依次排列在所述主图形的第二侧，所述第二侧与所述第一侧相对设置。

3.根据权利要求1所述的光掩膜，其特征在于，所述至少一个散射条图形包括第一散射条图形、第二散射条图形、第三散射条图形和第四散射条图形；

所述第一散射条图形包括多个间隔设置的第一子散射条图形，所述多个第一子散射条图形依次排列在所述主图形的第一侧；

所述第二散射条图形包括多个间隔设置的第二子散射条图形，所述多个第二子散射条图形依次排列在所述主图形的第二侧，所述第二侧与所述第一侧相对设置；

所述第三散射条图形包括多个间隔设置的第三子散射条图形，所述多个第三子散射条图形依次排列在所述主图形的第三侧；

所述第四散射条图形包括多个间隔设置的第四子散射条图形，所述多个第四子散射条图形依次排列在所述主图形的第四侧，所述第四侧与所述第三侧相对设置。

4.根据权利要求1～3任一项所述的光掩膜，其特征在于，所述子散射条图形的形状为矩形。

5.根据权利要求4所述的光掩膜，其特征在于，所述子散射条图形的宽度大于20nm。

6.根据权利要求1所述的光掩膜，其特征在于，同一散射条图形中，多个子散射条图形的大小相等。

7.根据权利要求1所述的光掩膜，其特征在于，同一散射条图形中，至少两个子散射条图形的大小不相等。

8.一种光掩膜的制作方法，其特征在于，包括：

提供主图形；

在所述主图形的至少一侧形成散射条图形，所述散射条图形包括多个间隔排列的子散射条图形，所述多个子散射条图形依次排列在所述主图形的一侧。

9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，在所述主图形的至少一侧形成散射条图形包括：

在所述主图形的第一侧形成第一散射条图形，在所述主图形的第二侧形成第二散射条图形；

其中，所述第一散射条图形包括多个间隔设置的第一子散射条图形，所述多个第一子散射条图形依次排列在所述主图形的第一侧，所述第二散射条图形包括多个间隔设置的第二子散射条图形，所述多个第二子散射条图形依次排列在所述主图形的第二侧，所述第二侧与所述第一侧相对设置。

10.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，在所述主图形的至少一侧形成散射条图形包括：

在所述主图形的第一侧形成第一散射条图形，在所述主图形的第二侧形成第二散射条图形，在所述主图形的第三侧形成第三散射条图形，在所述主图形的第四侧形成第四散射条图形；

其中，所述第一散射条图形包括多个间隔设置的第一子散射条图形，所述多个第一子散射条图形依次排列在所述主图形的第一侧，所述第二散射条图形包括多个间隔设置的第二子散射条图形，所述多个第二子散射条图形依次排列在所述主图形的第二侧，所述第二侧与所述第一侧相对设置，所述第三散射条图形包括多个间隔设置的第三子散射条图形，所述多个第三子散射条图形依次排列在所述主图形的第三侧，所述第四散射条图形包括多个间隔设置的第四子散射条图形，所述多个第四子散射条图形依次排列在所述主图形的第四侧，所述第四侧与所述第三侧相对设置。