[发明专利]一种用于真空炉石墨部件的防护方法

权利要求书

1.一种用于真空炉石墨部件的防护方法，其特征在于，包括以下步骤：

1)将真空炉中的石墨部件进行抛光打磨，使石墨部件的表面粗糙度达到0.5mm以下；

2)将步骤1)抛光打磨后的石墨部件放入CVD炉内；

3)设定CVD炉内温度为1400-1900℃，压力为50-1000Pa，然后向CVD炉内通入甲烷和氮气，气体体积流量比为1:(1-20)，通入时间为0.1-10h，在石墨部件表面沉积一层热解石墨涂层；

或者

设定CVD炉内温度为1500-2000℃，压力为10-300Pa，然后向CVD炉内通入三氯化硼、氨气和惰性气体，气体体积流量比为1:(1-5)：(1-20)，通入时间为0.1-10h，在石墨部件表面沉积一层热解氮化硼涂层。

2.如权利要求1所述的用于真空炉石墨部件的防护方法，其特征在于，步骤1)中，所述石墨部件包括石墨电极板、石墨发热棒。

3.如权利要求1所述的用于真空炉石墨部件的防护方法，其特征在于，步骤1)中，将石墨部件从真空炉内取出，使用2000目砂纸进行抛光打磨。

4.如权利要求1所述的用于真空炉石墨部件的防护方法，其特征在于，步骤1)中，抛光打磨后，石墨部件的表面粗糙度为0.1mm。

5.如权利要求1所述的用于真空炉石墨部件的防护方法，其特征在于，步骤3)中，所述惰性气体包括氩气、氦气或氮气。

6.如权利要求1所述的用于真空炉石墨部件的防护方法，其特征在于，步骤3)中，在温度1800℃、压力200Pa的条件下通入甲烷和氮气，气体体积流量比为1:10，通入时间为5h。

7.如权利要求1所述的用于真空炉石墨部件的防护方法，其特征在于，步骤3)中，在温度1800℃、压力100Pa的条件下通入三氯化硼、氨气以及氮气，气体体积流量比为1:3:5，通入时间为3h。

8.如权利要求1所述的用于真空炉石墨部件的防护方法，其特征在于，步骤3)中，热解石墨涂层的厚度为100微米，热解氮化硼涂层的厚度为100微米。

9.一种CVD炉，包括权利要求1-8任一项所述的防护方法制得的石墨部件。