[发明专利]一种基于行星运动的单面研磨设备在审

专利信息
申请号: 202010715037.8 申请日: 2020-07-23
公开(公告)号: CN111761507A 公开(公告)日: 2020-10-13
发明(设计)人: 张军;申波;鲁元朋;王焱海 申请(专利权)人: 洛阳润驰隆数控设备有限公司
主分类号: B24B37/10 分类号: B24B37/10;B24B37/11;B24B37/30;B24B37/34;B24B47/12;B24B55/03
代理公司: 北京细软智谷知识产权代理有限责任公司 11471 代理人: 陈义
地址: 471000 河南省洛阳市老城*** 国省代码: 河南;41
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 行星 运动 单面 研磨 设备
【权利要求书】:

1.一种基于行星运动的单面研磨设备,其特征在于,包括研磨盘结构、压盘结构以及行星轮结构,所述行星轮结构设置在所述研磨盘结构与所述压盘结构之间;

所述行星轮结构包括太阳轮、内齿轮以及多个行星轮,多个所述行星轮均与所述太阳轮和所述内齿轮相啮合,在所述太阳轮上连接有中心轴驱动系统,所述中心轴驱动系统驱动所述太阳轮转动,能够带动所述行星轮转动;待研磨的工件设置在所述行星轮上;

所述压盘结构将待研磨的工件压紧在所述研磨盘结构上,所述行星轮结构带动工件做行星运动。

2.根据权利要求1所述的基于行星运动的单面研磨设备,其特征在于,所述压盘结构包括压盘驱动机构以及第一压盘,所述压盘驱动机构能驱动所述第一压盘移动直至所述压盘结构压紧在多个所述行星轮上的待研磨的工件上。

3.根据权利要求2所述的基于行星运动的单面研磨设备,其特征在于,在所述第一压盘的圆周上还均匀分布连接有多个第二压盘,多个所述第二压盘与多个所述行星轮位置一一对应。

4.根据权利要求3所述的基于行星运动的单面研磨设备,其特征在于,所述第一压盘包括第一固定盘和第一浮动盘,所述第一浮动盘套设在所述第一固定盘上,

所述第二压盘包括第二固定盘和第二浮动盘,所述第二浮动盘套设在所述第二固定盘上,

所述第一固定盘与所述压盘驱动机构连接,所述第一浮动盘与所述第二固定盘连接,所述第二浮动盘与待研磨的工件相接触,所述第一固定盘与所述第一浮动盘之间、所述第二固定盘与所述第二浮动盘之间在竖直方向均具有浮动位移。

5.根据权利要求1所述的基于行星运动的单面研磨设备,其特征在于,在所述行星轮上设置有若干个存放孔,待研磨的工件设置在所述存放孔内。

6.根据权利要求1所述的基于行星运动的单面研磨设备,其特征在于,所述研磨盘结构包括研磨盘和研磨盘驱动机构,所述研磨盘驱动机构包括研磨盘驱动源和研磨盘驱动轴,所述研磨盘驱动轴与所述研磨盘连接,所述研磨盘驱动源驱动所述研磨盘驱动轴转动,带动所述研磨盘转动;

所述中心轴驱动系统包括中心转轴和中心轴驱动系统,所述中心转轴与所述太阳轮连接,所述中心轴驱动系统驱动所述中心转轴转动,带动所述中心轮转动,

所述研磨盘驱动轴为空心轴,所述中心转轴转动穿设在所述研磨盘驱动轴内。

7.根据权利要求2所述的基于行星运动的单面研磨设备,其特征在于,所述压盘驱动机构为气缸。

8.根据权利要求2所述的基于行星运动的单面研磨设备,其特征在于,所述中心轴驱动系统与所述压盘驱动机构处于同一轴线上。

9.根据权利要求2所述的基于行星运动的单面研磨设备,其特征在于,基于行星运动的单面研磨设备还包括冷却液供给系统,所述冷却液供给系统包含冷却液流水盘,所述冷却液流水盘设置在所述第一压盘上方,在所述冷却液流水盘上设置有流水孔,所述冷却液供给系统将冷却液输送至所述冷却液流水盘并经所述流水孔流出分散至所述行星轮结构上。

10.根据权利要求9所述的基于行星运动的单面研磨设备,其特征在于,基于行星运动的单面研磨设备还包括控制器,所述控制器与所述研磨盘结构、所述压盘结构、所述冷却液供给系统以及所述行星轮结构均电连接。

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