[发明专利]一种多层复合光催化薄膜材料及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种多层复合光催化薄膜材料，其特征是，由AgInS₂薄膜和ZnO薄膜多层复合，结构通式为[AgInS₂(_X)/ZnO(y)]_n，其中x和y分别表示单个踱膜循环中AgInS₂薄膜和ZnO薄膜的厚度，且1x30nm,1y30nm,n为复合镀膜的叠加数，且1n5；所述的AgInS₂薄膜和ZnO薄膜多层复合是通过射频磁控溅射镀膜制得；所述的多层复合光催化薄膜材料总厚度为150-200nm；整个复合薄膜材料中每次的镀膜循环中AgInS₂薄膜和ZnO薄膜的质量组成比例为1:2～200。

2.权利要求1所述的一种多层复合光催化薄膜材料的制备方法，其特征是，包括步骤如下：

(1)清洗并烘干玻璃基片，将玻璃基片放在掩膜板上固定送入预处理室；预处理室抽真空，当预处理室的真空度数量级达到磁控室的真空度的时候，把预处理室和磁控室之间的挡板打开，将玻璃基片送入磁控室之中，关闭磁控室和预处理室之间的挡板；磁控室抽真空，先用机械泵抽真空，再利用分子泵对磁控室抽高真空，通入氩气；辉光放电，当放电的颜色稳定呈现出蓝白色的时候准备开始镀膜；

(2)a.将玻璃基片转动到AgInS₂靶材的正上方，把溅射功率调节成180-300W，将玻璃基片的转盘的转动功率调节为2-5W，将玻璃基片的温度设置为120-180℃，向磁控室中通入气体使得气体流量计氧气和氩气的流量比为1:3-5，同时控制磁控室中气体的工作总压强保持在0.5-2.0Pa，使基片处于辉光放电的范围之中，开始计时镀膜，在稳定辉光放电的气氛中进行镀膜1～2h；

b.将玻璃基片的转盘转动到ZnO靶材的正上方，把溅射功率调节成180-300W，将基板的转盘的转动功率调节为2-5W，将玻璃基片的温度设置为120-180℃，向磁控室中通入气体使得气体流量计氧气和氩气的流量比为1:3-5，同时控制磁控室中气体的工作总压强保持在0.5-2.0Pa，使基片处于辉光放电的范围之中，开始计时镀膜，在稳定辉光放电的气氛中进行镀膜1～2h；

c.重复上述a、b两步，直到完成复合多层[AgInS₂(_X)/ZnO(y)]_n设定的总层数；

(3)射频磁控溅射完毕后，调节预处理室和磁控室的压强，取出镀制好薄膜的基片。

3.根据权利要求2所述的一种多层复合光催化薄膜材料的制备方法，其特征是，步骤(1)所述的磁控室当真空度达到6.0×10^-4Pa的同时，关闭磁控室分子泵阀门，打开氩气气罐阀门，同时调节分子泵的阀门，观察真空计，当磁控室的工作压强达到1.0Pa的时候将分子泵阀门的位置固定。

4.根据权利要求2所述的一种多层复合光催化薄膜材料的制备方法，其特征是，步骤(2)a.溅射功率为240W，基板的转盘的转动功率为3W，玻璃基片的温度为150℃，磁控室中气体的工作总压强保持在1.0Pa，在稳定辉光放电的气氛中进行镀膜0.5h。

5.根据权利要求2所述的一种多层复合光催化薄膜材料的制备方法，其特征是，步骤(2)b.溅射功率为240W，基板的转盘的转动功率为3W，玻璃基片的温度为150℃，磁控室中气体的工作总压强保持在1.0Pa，在稳定辉光放电的气氛中进行镀膜1.5h。

6.权利要求1所述的一种多层复合光催化薄膜材料在废水处理中的应用。

7.权利要求1所述的一种多层复合光催化薄膜材料在染料废水或抗生素废水处理中的应用。