[发明专利]多射束描绘方法及多射束描绘装置

权利要求书

1.一种多射束描绘方法，其特征在于，具备：

取得与多个参数值对应的多个位置偏移数据的工序，该多个参数值是使照射到基板上的多射束的各射束的位置偏移量变化的参数的多个参数值；

计算与所述多个位置偏移数据分别对应的多个基准系数数据的工序；

使用与所述多个参数值对应的多个基准系数数据，计算与所述基板上的所述多射束的照射位置处的参数值对应的系数数据的工序；

使用所述系数数据对所述各射束的每次发射的照射量进行调制的工序；以及

向所述基板照射被调制后的所述照射量的多射束的至少一部分的所述各射束而描绘图案的工序。

2.根据权利要求1所述的多射束描绘方法，其特征在于，

在存在多个使所述多射束的所述各射束的照射位置的偏移变化的参数的情况下，针对该多个参数的每一个，取得与所述多个参数的参数值的组对应的所述多个位置偏移数据，按所述多个参数的参数值的每个组，计算所述多个基准系数数据，

通过对每个所述组的所述多个基准系数数据的内插或外推，计算与照射位置处的所述多个参数的所述参数值的组对应的所述系数数据。

3.根据权利要求2所述的多射束描绘方法，其特征在于，

所述多个参数包括所述多射束的焦点位置以及图案密度。

4.根据权利要求1所述的多射束描绘方法，其特征在于，

具有如下工序：在所述基板的描绘中，至少在离散的时刻进行所述多射束的射束位置偏移的测定，从所述测定取得所述多个位置偏移数据，所述多个位置偏移数据表示所述多射束的所述各射束的位置偏移，

使用分别包括在所述多个位置偏移数据中的、第一位置偏移数据及第二位置偏移数据，计算与所述第一位置偏移数据对应的第一基准系数数据及与所述第二位置偏移数据对应的第二基准系数数据，所述第一位置偏移数据是从开始所述描绘起经过了第一时间后的时刻的位置偏移数据，所述第二位置偏移数据是从开始所述描绘起经过了第二时间后的时刻的位置偏移数据，所述第一时间比从开始所述描绘起的经过时间短，所述第二时间比从开始所述描绘起的经过时间短且比所述第一时间长，

通过所述第一基准系数数据及所述第二基准系数数据的外推，计算与当前时刻对应的系数数据。

5.根据权利要求1所述的多射束描绘方法，其特征在于，

具有如下工序：在所述基板的描绘中，至少在离散的时刻进行所述多射束的所述各射束的所述位置偏移量的测定，取得所述多个位置偏移数据，

使用分别包括在所述多个位置偏移数据中的、第一位置偏移数据及第二位置偏移数据，计算与所述第一位置偏移数据对应的第一基准系数数据及与所述第二位置偏移数据对应的第二基准系数数据，所述第一位置偏移数据是从开始所述描绘起经过了第一时间后的时刻的位置偏移数据，所述第二位置偏移数据是从开始所述描绘起经过了第二时间后的时刻的位置偏移数据，所述第一时间比从开始所述描绘起的经过时间短，所述第二时间比从开始所述描绘起的经过时间短且比所述第一时间长，

针对比从开始所述描绘到当前为止的经过时间长的第三时间，使用所述第一位置偏移数据及所述第二位置偏移数据，计算从开始所述描绘起经过了所述第三时间后的时刻的第三位置偏移数据，

计算与所述第三位置偏移数据对应的第三基准系数数据，

通过所述第二基准系数数据及第三基准系数数据的内插，计算与当前时刻对应的系数数据。

6.一种多射束描绘装置，其特征在于，具备；

存储部，存储与多个参数值对应的多个位置偏移数据，该多个参数值是使多射束的各射束的位置偏移量变化的参数的多个参数值；

系数计算部，使用所述多个位置偏移数据，针对所述参数的多个参数值的每一个，计算在照射量校正计算中使用的多个基准系数数据，使用所述多个基准系数数据，计算与所述多射束的照射位置处的参数的参数值对应的系数数据，所述照射量校正计算是为了校正所述多射束对基板施加的曝光量分布而调制所述各射束的每次发射的照射量；

照射量计算部，使用所述系数数据对所述各射束的每次所述发射的所述照射量进行调制；以及

描绘部，对所述基板照射被调制后的所述照射量的所述各射束而描绘图案。