[发明专利]金色三银低辐射镀膜玻璃及其制备方法

权利要求书

1.一种金色三银低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片及设于所述玻璃基片表面的膜层结构，其特征在于，所述膜层结构自所述玻璃基片向外包括第一复合介质层、第一银层、第一保护层、第二复合介质层、第二银层、第二保护层、第三复合介质层、第三银层、第三保护层、第四复合介质层，其中于所述第一银层和所述第一保护层之间、所述第二银层和所述第二保护层之间、及所述第三银层和所述第三保护层之间中的至少一者设有铜合金层，所述铜合金层为铜镍钛合金层，铜镍钛比为7:2:1。

2.如权利要求1所述的金色三银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一银层、所述第二银层和所述第三银层的厚度之和大于等于35nm。

3.如权利要求1所述的金色三银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述膜层结构自所述玻璃基片向外包括第一复合介质层、所述第一银层、第一铜合金层、第一保护层、第二复合介质层、所述第二银层、第二铜合金层、第二保护层、第三复合介质层、所述第三银层、第三铜合金层、第三保护层、第四复合介质层。

4.如权利要求1所述的金色三银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述膜层结构自所述玻璃基片向外包括第一复合介质层、所述第一银层、第二复合介质层、所述第二银层、第二铜合金层、第二保护层、第三复合介质层、所述第三银层、第三保护层、第四复合介质层，其中所述第二复合介质层自所述第一银层向外依次包括AZO层、氮化硅层、氧化锌锡层和氧化锌层。

5.如权利要求4所述的金色三银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一保护层、所述第二保护层和所述第三保护层均为镍铬材质制备。

6.一种如权利要求1-5任一项所述的金色三银低辐射镀膜玻璃的制备方法，采用真空磁控溅射镀膜技术实现，其特征在于，包括以下步骤：

将第一银层、第二银层和第三银层分别沉积于膜层结构的相应位置，

将所述第一银层、所述第二银层和所述第三银层中至少一者的表面沉积铜合金层。