[发明专利]一种自由运行模式下的负反馈雪崩光电二极管在审

专利信息
申请号: 202010728040.3 申请日: 2020-07-23
公开(公告)号: CN111682086A 公开(公告)日: 2020-09-18
发明(设计)人: 史衍丽;杨雪艳;朱泓遐;刘辰 申请(专利权)人: 云南大学
主分类号: H01L31/107 分类号: H01L31/107;H01L31/0304
代理公司: 成都方圆聿联专利代理事务所(普通合伙) 51241 代理人: 苟铭
地址: 650091*** 国省代码: 云南;53
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摘要:
搜索关键词: 一种 自由 运行 模式 负反馈 雪崩 光电二极管
【权利要求书】:

1.一种自由运行模式下的负反馈雪崩光电二极管,包括外延结构,其特征在于,所述外延结构包括InP衬底,InGaAs吸收层,InGaAsP缓冲层,倍增区,势垒区以及外延集成在器件表面的淬灭薄膜电阻。

2.根据权利要求1所述的自由运行模式下的负反馈雪崩光电二极管,其特征在于,所述倍增区为InP材料,从衬底开始从下到上依次为n-InP,i-InP和P-InP共三层。

3.根据权利要求2所述的自由运行模式下的负反馈雪崩光电二极管,其特征在于,所述倍增区每层厚度在0.1~3.5μm范围。

4.根据权利要求1所述的自由运行模式下的负反馈雪崩光电二极管,其特征在于,所述的势垒区有两层,分别为InGaAlAs材料层、InAlAs材料层和InP材料层。

5.根据权利要求4所述的自由运行模式下的负反馈雪崩光电二极管,其特征在于,所述的势垒区每层厚度在0.1~0.5μm范围。

6.根据权利要求1所述的自由运行模式下的负反馈雪崩光电二极管,其特征在于,所述的器件表面外延集成的淬灭薄膜电阻外延集成的NiCr的合金薄膜电阻,厚度为40nm~1μm。

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