[发明专利]一种自由运行模式下的负反馈雪崩光电二极管在审
申请号: | 202010728040.3 | 申请日: | 2020-07-23 |
公开(公告)号: | CN111682086A | 公开(公告)日: | 2020-09-18 |
发明(设计)人: | 史衍丽;杨雪艳;朱泓遐;刘辰 | 申请(专利权)人: | 云南大学 |
主分类号: | H01L31/107 | 分类号: | H01L31/107;H01L31/0304 |
代理公司: | 成都方圆聿联专利代理事务所(普通合伙) 51241 | 代理人: | 苟铭 |
地址: | 650091*** | 国省代码: | 云南;53 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 自由 运行 模式 负反馈 雪崩 光电二极管 | ||
1.一种自由运行模式下的负反馈雪崩光电二极管,包括外延结构,其特征在于,所述外延结构包括InP衬底,InGaAs吸收层,InGaAsP缓冲层,倍增区,势垒区以及外延集成在器件表面的淬灭薄膜电阻。
2.根据权利要求1所述的自由运行模式下的负反馈雪崩光电二极管,其特征在于,所述倍增区为InP材料,从衬底开始从下到上依次为n-InP,i-InP和P-InP共三层。
3.根据权利要求2所述的自由运行模式下的负反馈雪崩光电二极管,其特征在于,所述倍增区每层厚度在0.1~3.5μm范围。
4.根据权利要求1所述的自由运行模式下的负反馈雪崩光电二极管,其特征在于,所述的势垒区有两层,分别为InGaAlAs材料层、InAlAs材料层和InP材料层。
5.根据权利要求4所述的自由运行模式下的负反馈雪崩光电二极管,其特征在于,所述的势垒区每层厚度在0.1~0.5μm范围。
6.根据权利要求1所述的自由运行模式下的负反馈雪崩光电二极管,其特征在于,所述的器件表面外延集成的淬灭薄膜电阻外延集成的NiCr的合金薄膜电阻,厚度为40nm~1μm。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
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H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
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H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的