[发明专利]一种可精密调节狭缝位置的旋转成像光谱系统

权利要求书

1.一种可精密调节狭缝位置的旋转成像光谱系统，其特征在于，包括狭缝调节模组、成像光谱模组、电动旋转台三个部分；狭缝调节模组通过二维精密调节狭缝位置使狭缝位于成像光谱系统旋转中心以校正偏心旋转造成的图谱畸变；成像光谱模组对待测物体的狭缝对应线型区域所反射或发射光线进行衍射分光，由感光芯片拍摄分光衍射光线；电动旋转台旋转控制成像光谱模组与狭缝调节模组一起旋转以避免狭缝相对感光芯片的位置变动，对待测物体旋转扫描成像，获取待测物体的二维图像和光谱信息。

2.根据权利要求2所述的一种可精密调节狭缝位置的旋转成像光谱系统，其特征在于，所述的狭缝调节模组包括狭缝、二维精密位移调节器，其中狭缝安装于二维精密位移调节器中。

3.根据权利要求2所述的狭缝调节模组中的狭缝，其特征在于，所述的狭缝宽度在较大半径处可随半径的增大而增大。

4.根据权利要求4所述的一种可精密调节狭缝位置的旋转成像光谱系统，其特征在于，所述的电动旋转台控制安装在该旋转台上的系统绕轴转动。

5.根据权利要求1所述的一种可精密调节狭缝位置的旋转成像光谱系统，其特征在于，所述的成像光谱模组依次包括成像镜头、狭缝、第一透镜组、第一光楔、光栅、第二光楔、第二透镜组及感光芯片。