[发明专利]防眩光玻璃及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种防眩光玻璃的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

对玻璃基板的一侧进行黄光工艺处理，在所述玻璃基板上形成多个间隔且均匀分布的光阻图案；

对所述玻璃基板形成有所述光阻图案的一侧进行氢氟酸蚀刻，所述玻璃基板上未形成有所述光阻图案的部分被蚀刻；及

对所述玻璃基板形成有所述光阻图案的一侧进行防眩光处理，除去多个所述光阻图案并在所述玻璃基板上形成多个晶粒凸起，制备防眩光玻璃；

其中，所述光阻图案为圆柱形，直径为6μm～9μm，相邻两个所述光阻图案的间距为13μm～16μm；所述晶粒凸起的最大宽度为16μm～18μm。

2.根据权利要求1所述的防眩光玻璃的制备方法，其特征在于，所述对玻璃基板的一侧进行黄光工艺处理的步骤包括：

在所述玻璃基板上形成光阻层；

对所述光阻层进行曝光、显影，以除去部分所述光阻层，形成多个间隔且均匀分布的所述光阻图案。

3.根据权利要求2所述的防眩光玻璃的制备方法，其特征在于，所述对玻璃基板的一侧进行黄光工艺处理的步骤之前，还包括：在所述玻璃基板的一侧层叠耐酸膜，所述光阻层形成在所述耐酸膜远离所述玻璃基板的一侧，所述对玻璃基板的一侧进行黄光工艺处理的步骤还包括：对所述玻璃基板进行蚀刻，未被所述光阻图案保护的所述耐酸膜被蚀刻，在所述玻璃基板上形成多个间隔且均匀分布的耐酸膜凸起，每个所述光阻图案层叠在一个所述耐酸膜凸起上。

4.根据权利要求3所述的防眩光玻璃的制备方法，其特征在于，所述耐酸膜的厚度为300nm～450nm。

5.根据权利要求3～4任一项所述的防眩光玻璃的制备方法，其特征在于，所述耐酸膜为钼膜或铜膜。

6.根据权利要求1所述的防眩光玻璃的制备方法，其特征在于，在所述氢氟酸蚀刻的步骤中，蚀刻的深度为3μm～6μm。

7.根据权利要求1所述的防眩光玻璃的制备方法，其特征在于，所述防眩光处理的步骤包括：先用AG药液对所述玻璃基板形成有所述光阻图案的一侧进行蒙砂处理，然后用氢氟酸对蒙砂处理后的所述玻璃基板进行化学抛光。

8.根据权利要求7所述的防眩光玻璃的制备方法，其特征在于，所述AG药液包括质量比为25：(3～8)的蒙砂粉和水。

9.根据权利要求7或8所述的防眩光玻璃的制备方法，其特征在于，所述化学抛光的步骤中，抛光量为20μm～30μm。

10.一种防眩光玻璃，其特征在于，由权利要求1～9任一项所述的防眩光玻璃的制备方法制备。

11.权利要求10所述的防眩光玻璃在制备显示器件的面板中的应用。

12.根据权利要求11所述的应用，其特征在于，所述显示器件为液晶显示器、电视、电脑或平板。