[发明专利]一种超声声场适形的基因转染装置

权利要求书

1.一种超声声场适形的基因转染装置，其特征在于，包括：

超声换能器(1)，用于发射超声波；

超声声场适形器(2)，用于容纳基因、细胞和超声响应颗粒的复合物，所述超声声场适形器(2)的形状以及大小根据所述超声波的声场进行确定；

焦距适配器(3)，用于将所述超声声场适形器(2)固定于预设位置，所述预设位置根据所述超声波的声场位置进行确定。

2.根据权利要求1所述的基因转染装置，其特征在于，所述超声声场适形器(2)的形状根据所述声场的焦斑的形状进行确定，所述超声声场适形器(2)的大小根据所述焦斑的大小进行确定，所述预设位置根据所述焦斑的位置进行确定。

3.根据权利要求2所述的基因转染装置，其特征在于，所述超声声场适形器(2)的形状与所述焦斑的形状相同。

4.根据权利要求2或3所述的基因转染装置，其特征在于，所述超声声场适形器(2)的大小与所述焦斑的大小相同。

5.根据权利要求2-4中任一项所述的基因转染装置，其特征在于，所述预设位置为所述焦斑的中心位置。

6.根据权利要求1-5中任一项所述的基因转染装置，其特征在于，所述焦距适配器(3)的一端用于与所述超声声场适形器(2)相连接，所述焦距适配器(3)的另一端用于与所述超声换能器(1)相连接，当所述超声声场适形器(2)、所述焦距适配器(3)与所述超声换能器(1)连接到一起时，所述超声声场适形器(2)位于所述预设位置。

7.根据权利要求6所述的基因转染装置，其特征在于，所述超声声场适形器(2)与所述焦距适配器(3)通过一体成型工艺形成一体结构。

8.根据权利要求7所述的基因转染装置，其特征在于，所述超声声场适形器(2)与所述焦距适配器(3)通过3D打印技术一体成型制成。

9.根据权利要求6-8中任一项所述的基因转染装置，其特征在于，所述超声声场适形器(2)固定连接于所述焦距适配器(3)的内部。

10.根据权利要求9所述的基因转染装置，其特征在于，所述焦距适配器(3)包括顶壁(32)，所述超声声场适形器(2)固定设置于所述顶壁(32)的内壁面上，所述顶壁(32)上开设有上样口(4)，所述上样口(4)与所述超声声场适形器(2)的开口相连通。

11.根据权利要求10所述的基因转染装置，其特征在于，所述顶壁(32)上开设有排气孔(5)。

12.根据权利要求10或11所述的基因转染装置，其特征在于，所述顶壁(32)的中部形成内凹结构(6)，所述内凹结构(6)的内表面的高度低于所述顶壁(32)其他部分内表面的高度，所述上样口(4)开设于所述内凹结构(6)上。

13.根据权利要求10-12中任一项所述的基因转染装置，其特征在于，所述焦距适配器(3)还包括周壁(31)，所述周壁(31)的一端连接于所述顶壁(32)上并且环绕所述顶壁(32)的周向设置，所述周壁(31)的另一端设置有连接器(7)，所述焦距适配器(3)通过所述连接器(7)与所述超声换能器(1)可拆卸连接。

14.根据权利要求1-13中任一项所述的基因转染装置，其特征在于，所述超声换能器(1)为聚焦式超声探头。

15.根据权利要求1-14中任一项所述的基因转染装置，其特征在于，所述超声响应颗粒为超声微泡。

16.根据权利要求1-15中任一项所述的基因转染装置，其特征在于，所述超声换能器(1)和超声声场适形器(2)均包括多个，多个所述超声换能器(1)与多个所述超声声场适形器(2)一一对应，各个超声换能器(1)所发射的超声波的声场各不相同。